[发明专利]显示面板、复合屏、显示终端和复合屏的制备方法在审

专利信息
申请号: 201811290667.4 申请日: 2018-10-31
公开(公告)号: CN110767827A 公开(公告)日: 2020-02-07
发明(设计)人: 范俊;谢峰 申请(专利权)人: 云谷(固安)科技有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L27/32;H01L51/56
代理公司: 44224 广州华进联合专利商标代理有限公司 代理人: 唐清凯
地址: 065500 河*** 国省代码: 河北;13
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 阴极 阴极隔离柱 显示面板 显示终端 复合屏 平坦部 隔离 侧壁表面 平坦部位 显示器件 显示性能 侧壁 制备 显示屏 申请
【权利要求书】:

1.一种显示面板,其特征在于,该显示面板包括:

阴极;

阴极隔离柱,其用于将相邻的两个所述阴极隔离开;

在所述显示面板的纵截面图中,所述阴极隔离柱的侧壁具有非平坦部,所述非平坦部位于所述阴极的上方。

2.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述非平坦部的数量为至少一个。

3.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述非平坦部为凹陷或凸起。

4.如权利要求3所述的显示面板,其特征在于,当所述非平坦部为所述凹陷时,所述凹陷的深度为1.5μm~2.5μm,所述凹陷的开口尺寸为

5.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述阴极隔离柱为复合膜层结构;

优选的,所述显示面板为PMOLED显示面板;

优选的,所述复合膜层结构包括依次层叠的刻蚀阻挡层、无机层和有机胶层;其中,所述无机层与所述刻蚀阻挡层之间的选择刻蚀比大于1;

优选的,所述刻蚀阻挡层的厚度为

优选的,所述复合膜层结构包括依次层叠的第一氮化硅层、氧化硅层、第二氮化硅层和光敏聚酰亚胺层;

优选的,所述复合膜层结构包括依次层叠的第一膜层和第二膜层;其中,所述第二膜层覆盖并凸出于所述第一膜层的上表面,以使得所述第一膜层的侧面和所述第二膜层的侧面交错形成所述阶梯状结构;

优选的,所述第一膜层和所述第二膜层的材质均为负性光刻胶。

6.一种复合屏,其特征在于,包括一体化的主屏体和副屏体,所述副屏体为PM屏体或类AM屏体,所述主屏体为AM屏体;

其中,所述副屏体为PM屏体时,该副屏体包括如权利要求1~5中任意一项所述的显示面板;

优选的,所述类AM屏的像素电路仅包含一个开关元件。

7.一种显示终端,其特征在于,包括:

设备本体,具有器件区;

如权利要求6所述的复合屏,覆盖在所述设备本体上;

其中,所述器件区位于所述副屏体的下方,且所述器件区中设置有透过所述副屏体进行光线采集的感光器件。

8.如权利要求7所述的显示终端,其特征在于,所述器件区为开槽区;以及

所述感光器件包括摄像头和/或光线感应器。

9.一种复合屏的制备方法,其特征在于,所述方法包括:

提供一半导体衬底,所述半导体衬底具有AM显示区和PM显示区;

于所述AM显示区中制备AM阳极层,于所述PM显示区中制备像素定义层;其中,在所述像素定义层具有像素开口,在所述像素开口制备有PM发光层;

制备依次叠置的刻蚀阻挡薄膜、无机薄膜和有机胶薄膜,所述刻蚀阻挡薄膜覆盖所述AM阳极层的上表面、所述像素定义层的上表面和所述PM发光层的上表面;

图形化所述有机胶薄膜形成有机胶层;

以所述有机胶层为掩膜,湿法刻蚀所述无机薄膜形成无机层;

刻蚀去除部分所述刻蚀阻挡薄膜,形成刻蚀阻挡层;以及

继续制备阴极层;

其中,在远离所述像素定义层的上表面方向上,依次叠置的所述刻蚀阻挡层、所述无机层和所述有机胶层形成倒梯形的阴极隔离柱;以及

所述阴极隔离柱的侧面形成有非平坦部,所述非平坦部用于将位于相邻所述发光层之上的阴极层隔断为相互隔离的阴极;

优选的,所述非平坦部为凹槽。

10.如权利要求9所述的方法,其特征在于,湿法刻蚀所述无机薄膜形成无机层时,所述刻蚀阻挡层与所述无机薄膜之间的刻蚀选择比大于1。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于云谷(固安)科技有限公司,未经云谷(固安)科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811290667.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top