[发明专利]一种带迂回内流道结构及其制造方法

权利要求书

1.一种带迂回内流道结构的制备方法，所述带迂回内流道结构，包括基体和法兰，法兰与基体为一体成型结构，基体内部设有迂回内流道，法兰上设有入口通道和出口通道，用于与迂回内流道的入口和出口相通，将迂回内流道的入口和出口引导到法兰另一侧；其特征在于包括如下步骤：

(1)、将带迂回内流道的结构三维模型导入到激光选区熔化成形模型处理软件，调整姿态和位置，使得迂回内流道免支撑；

(2)、将法兰向下延伸预设长度，在延伸长度后的法兰下方增加辅助支撑结构模型，为调整好姿态和位置的带迂回内流道的结构三维模型提供支撑，

(3)、在辅助支撑结构模型上设计两个泄粉孔，一个泄粉孔与法兰上的入口通道连通；另一个泄粉孔与法兰上的出口通道连通；

(4)、将辅助支撑结构模型与带迂回内流道的结构三维模型拼接，共同构成激光选区熔化成形模型；

(5)、采用激光选区熔化成形方法，对激光选区熔化成形模型进行成形处理，得到由外部辅助结构支撑的带迂回内流道的结构；

(6)、通过从泄粉孔往迂回内流道吹气的方法，清理流道内的残余粉末；

(7)、去除辅助支撑结构，实现带迂回内流道结构的整体制造。

2.根据权利要求1所述的一种带迂回内流道结构的制备方法，其特征在于所述迂回内流道的截面为圆形或者菱形。

3.根据权利要求1所述的一种带迂回内流道结构的制备方法，其特征在于当迂回内流道的截面为圆形时，截面的直径为2～6mm。

4.根据权利要求1所述的一种带迂回内流道结构的制备方法，其特征在于所述迂回内流道的流道构型为直流道或螺旋流道。

5.根据权利要求1所述的一种带迂回内流道结构的制备方法，其特征在于所述基体和法兰选用材料为GH4169或TC4。

6.根据权利要求1～5任一项所述的一种带迂回内流道结构的制备方法，其特征在于所述步骤(6)之前通过机械振动将迂回内流道堆积的残余粉末打散。

7.根据权利要求1～5任一项所述的一种带迂回内流道结构的制备方法，其特征在于所述辅助支撑结构模型为圆角支撑结构，圆角半径为1.5-2.5mm。

8.根据权利要求5所述的一种带迂回内流道结构的制备方法，其特征在于当基体和法兰选用材料为GH4169时，激光选区熔化成形的工艺参数为：激光功率为300～380W，扫描速度600～1000mm/s扫描间距为0.08～0.12mm，分层厚度为20～60μm。

9.根据权利要求5所述的一种带迂回内流道结构的制备方法，其特征在于当基体和法兰选用材料为TC4时，激光选区熔化成形的工艺参数为：激光功率为260～320W，扫描速度800～1200mm/s扫描间距为0.10～0.14mm，分层厚度为20～60μm。