[发明专利]一种阻隔膜及其制备方法和蓝光透过率调节方法

说明书

本发明涉及光学膜技术领域，尤其是涉及一种阻隔膜及其制备方法和蓝光透过率调节方法，所述阻隔膜自上而下依次包括第一水氧阻隔层、第二水氧阻隔层和基底层，所述第二水氧阻隔层的折射率小于第一水氧阻隔层的折射率。所述制备方法包括在基底层表面涂布树脂材料，固化形成第二水氧阻隔层；在所述第二水氧阻隔层表面沉积或涂布金属氧化物，形成第一水氧阻隔层，即得所述阻隔膜。本发明所述的阻隔膜，通过将第二水氧阻隔层设置于第一水氧阻隔层与基底层之间，提高了阻隔膜的阻隔性能，并且提高各层之间折射率的匹配性，降低反射率，提高光学效率，并提高蓝光透射率。

技术领域

本发明涉及光学膜技术领域，尤其是涉及一种阻隔膜及其制备方法和蓝光透过率调节方法。

背景技术

随着显示技术的发展，为了满足实际需求，科研人员研发出多样的光学膜。量子点膜作为光学膜的一种，是用于液晶显示器背光模组里替代下扩散膜的光学膜片。

量子点对水汽敏感，量子点膜中的无机材料容易被氧化或结晶化，从而降低发光效率影响量子点膜的性能。因此，需要用水汽阻隔膜对量子点膜进行有效的封装，使量子点膜的功能层不接触大气中的水汽、氧气等成分。

现有技术中使用的水汽阻隔膜大都采用单层无机氧化物材料或采用多层有机无机材料堆叠来达到水汽阻隔的目的。但是致密的金属氧化物的折射率比一般基材高，而多层的有机无机材料堆叠的厚度过高，并且有机材料和无机材料的折射率不匹配，导致反射率增加，使QDEF背光源存在光学上的损耗。因而，急需一种适配于量子点膜的阻隔膜，以达到水汽氧等阻隔的目的，提高量子点的发光效率，并避免光学损耗。

有鉴于此，特提出本发明。

发明内容

本发明的第一目的在于提供一种阻隔膜，所述阻隔膜用于量子点膜上，在实现阻隔效果的同时，能够优化光学效果，降低成本；具有优异的水汽、氧气阻隔效果；并且能够有效提高蓝光波段透过率，避免光学损失。

本发明的第二目的在于提供一种阻隔膜的制备方法，所述制备方法操作简单，重复性好，成本低，制备得到的阻隔膜表面平整，结构致密，具有很好的水汽、氧气阻隔效果，蓝光波段透过率高。

本发明的第三目的在于提供一种所述阻隔膜的蓝光透过率的调节方法，通过调节基底层和/或第一水氧阻隔层和/或第二水氧阻隔层的折射率，得到不同蓝光透过率的阻隔膜。

为了实现本发明的上述目的，特采用以下技术方案：

一种阻隔膜，自上而下依次包括第一水氧阻隔层、第二水氧阻隔层和基底层，所述第二水氧阻隔层的折射率小于第一水氧阻隔层的折射率。

本发明所述的阻隔膜，通过将第二水氧阻隔层设置于第一水氧阻隔层与基底层之间，提高了阻隔膜的阻隔性能，并且提高各层之间折射率的匹配性，避免了现有技术中第一水氧阻隔层的折射率与基材折射率不匹配，造成的反射率增加，导致QDEF背光源在光学上的损耗；本发明提高了第一水氧阻隔层与基材折射率的匹配性，降低反射率，提高光学效率，并提高蓝光透射率。

在本发明一优选实施方式中，所述第一水氧阻隔层的折射率n₁、第二水氧阻隔层的折射率n₂和基底层的折射率n₃满足：

现有技术中，致密的金属氧化物的折射率比基材高，二者折射率不匹配，导致反射率增加，使QDEF背光源存在较大的光学上的损耗。本发明通过在第一水氧阻隔层和基材层之间增设有第二水氧阻隔层，并使三层之间的折射率达到上述关系，匹配折射率，使所述阻隔膜的蓝光波段透过率可达92％。

蓝光增透能够有效避免入射蓝光的反射，增加蓝光的利用率，使用蓝光作为激发光，激发绿光和红光，与蓝光一起混合成白光，从而提升了LCD背光的发光效果。