[发明专利]玻璃再生处理方法、再生玻璃基板及使用其的光掩模坯料和光掩模

说明书

本发明涉及为了将在各种平板的生产中使用完的光掩模或在光掩模制造工序中成为不良的光掩模作为新型光掩模用玻璃基板再利用而进行再生处理的方法、利用该再生处理方法所再生的光掩模用玻璃基板、以及使用该光掩模用玻璃基板的光掩模用坯料及光掩模。通过对再生玻璃基板的表面未进行以往的物理性研磨处理而进行使润湿性均匀化直至在呼气像检查中不出现原本图案痕迹的处理，能够以低成本获得缺陷少的再生玻璃基板。

本申请是国际申请日为2013年9月19日、申请号为201380047359.8、发明名称为“玻璃再生处理方法、再生玻璃基板及使用其的光掩模坯料和光掩模”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及为了将以金属薄膜形成图案且在各种平板的光蚀刻(以下也称为光刻)工序中被用于生产的光掩模或光掩模制造工序中成为不良的光掩模作为新型光掩模用玻璃基板再利用而进行再生处理的方法、利用该再生处理方法所再生的光掩模用玻璃基板、以及使用该光掩模用玻璃基板的光掩模用坯料及光掩模。

背景技术

通常用于制造平板等的光掩模通过如下方式制成：在合成石英等低膨胀玻璃基板上层叠铬、氧化铬、氮化铬等的金属薄膜，制成形成有遮光层的光掩模用坯料，对该光掩模用坯料使用光蚀刻法并利用EB(Electron Beam，电子束)描绘或激光描绘形成图案。

此种光掩模被组装使用在液晶显示装置、有机EL显示装置、高精度的触控面板等的用于形成像素等的各种曝光装置等中。这些制品所使用的光掩模根据品质性能而使用合成石英，随着近年来面板的大型化，光掩模尺寸也逐渐大型化，光掩模用玻璃基板也变得更昂贵，使得使用完的光掩模或不良的光掩模的再利用成为重要技术。

对于上述光掩模基板而言，从品质、高度的观点出发，光掩模用玻璃基板的材质通常使用合成石英，玻璃基板的尺寸在液晶显示设备的平板基板的第1代基板中为320mm×300mm，光掩模用玻璃基板尺寸为较平板用玻璃基板稍大的330mm×450mm，因而进行一并曝光，但随着平板基板的大型化，曝光装置也大型化，进而投影曝光或接近曝光等曝光方式以及步进式输送或扫描方式等输送方式也多样化，光掩模尺寸也大型化、多样化。

在此种平板中，平板基板的第5代为1000mm×1200mm，其光掩模基板尺寸通常为520mm×800mm或800mm×920mm。第8代的平板基板为2160mm×2460mm，其所使用的光掩模基板尺寸为1220mm×1400mm等。

另一方面，合成石英的高品质的光掩模用玻璃基板正加速面板的低成本化，因而要求降低成本，故进行使用完的光掩模或不良的光掩模的再生处理。

通常平板的每个部件的各制品的光掩模图案并不相同，在制品的生产结束时，便不再需要这些光掩模。

另外，在光掩模工序中，也会产生在制造工序中产生的不良品或检查工序中的不良品。

为了再利用上述使用完的光掩模基板或不良的光掩模基板，将形成有图案的金属薄膜利用蚀刻液溶解去除而使其成为玻璃坯料的状态。

然而，使用完的光掩模基板或已经在光掩模工序中形成金属薄膜图案的基板存在如下问题：仅将金属薄膜图案利用蚀刻液溶解去除并洗涤时，若再次使金属薄膜成膜并对利用光刻加工对该基板形成图案，则存在原本的图案痕迹，并且容易产生图案缺陷。

因此，在再利用上述光掩模时，在将形成有图案的金属薄膜利用蚀刻液溶解去除而使其成为玻璃坯料的状态后，为了使玻璃表面洁净且均匀化而进一步使用研磨剂对玻璃表面进行物理性研磨，再进行去除在研磨中所使用的研磨剂的洗涤，而作为光掩模用玻璃基板进行再利用。

专利文献1为一种在光掩模存在表面损伤的基板的再生处理方法，其对光掩模的遮光层进行蚀刻而溶解去除在光掩模制造工序中产生的损伤，磨削玻璃基板直至达到损伤的深度而去除玻璃表面的损伤，对具有因表面磨削所造成的微小凹凸的表面进行镜面抛光研磨处理，从而再生为玻璃坯料。