[发明专利]显示基板及其对位标记的制作方法、显示面板和显示装置

说明书

本申请实施例提供了一种显示基板，包括：基底，基底包括显示区域和周边区域，基底在周边区域需要设置对位标记的位置处设置有凹陷部；对位膜层，位于基底的周边区域，在凹陷部对应位置处断开，且对位膜层的图案与对位标记图案相同。本申请实施例还提供了显示面板、显示装置和显示基板对位标记的制作方法。由于本申请实施例在基底的周边区域需要设置对位标记的位置处设置有凹陷部，当刻蚀对位膜层产生过刻时，过刻能够在凹陷部的侧壁上进行，避免了由于过刻而导致图案的均一性较差的问题，提升了图案整体的一致性，进一步增强了相关显示装置的显示效果。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体为显示基板及其对位标记的制作方法、显示面板和显示装置。

背景技术

随着全球信息社会的兴起增加了对各种显示装置的需求。因此，对各种平面显示装置的研究和开发投入了很大的努力，如液晶显示装置、等离子显示装置、场致发光显示装置以及真空荧光显示装置。而液晶显示装置因其功耗小、成本低、无辐射和易操作等特点，已越来越多的走进人们的生活、工作中，并广泛应用于各个领域，如家庭、公共场所、办公场所及个人电子相关产品等。

在显示装置的阵列(Array)工艺过程中，申请人发现，在湿法刻蚀(Wet etch)过程中，由于存在过刻的情况，使得在基板上所刻图案(Pattern)的尺寸(Critical Dimension；CD)比实际所需要的尺寸大，很容易降低图案的均一性，进一步降低显示装置的显示效果。

发明内容

有鉴于此，本发明提供显示基板及其对位标记的制作方法、显示面板和显示装置，能够解决现有技术中存在的由于过刻而导致图案的均一性较差的问题。

为了解决上述问题，本申请实施例主要提供如下技术方案：

在第一方面中，本申请实施例公开了一种显示基板，包括：

基底，所述基底包括显示区域和周边区域，所述基底在所述周边区域需要设置对位标记的位置处设置有凹陷部；

对位膜层，位于所述基底的周边区域，在所述凹陷部对应位置处断开，且所述对位膜层的图案与对位标记图案相同。

在第二方面中，本申请实施例公开了一种显示面板，包括：第一方面所述的显示基板。

在第三方面中，本申请实施例公开了一种显示装置，包括：第二方面所述的显示面板。

在第四方面中，本申请实施例公开了一种显示基板对位标记的制作方法，包括：

提供基底，所述基底包括显示区域和周边区域；

采用构图工艺在所述基底周边区域需要形成所述对位标记的位置处制作凹陷部；

在制作有所述凹陷部的基底上制作对位膜层，并在所述对位膜层上涂覆光刻胶；

采用构图工艺去除所述凹陷部底部区域对应位置处的光刻胶，暴露出对位膜层；

采用构图工艺去除暴露出的对位膜层，并去除剩余的光刻胶，形成对位标记图案。

借由上述技术方案，本申请实施例提供的技术方案至少具有下列优点：

由于本申请实施例的基底在周边区域需要设置对位标记的位置处设置有凹陷部，使得在基底上形成对位膜层时，对位膜层能够形成在凹陷部的侧壁上。当采用湿法刻蚀的方式使得对位膜层在凹陷部对应位置处断开时，而湿法刻蚀存在过刻的情况，本申请实施例发生过刻时，即使过刻的程度与现有技术相同，由于过刻能够沿凹陷部的侧壁的方向上进行，因此，在刻蚀对位膜层后，实际对位膜层的图案的尺寸与对位标记图案的标准尺寸相类似，不会导致对位标记图案无法对位的问题，从而有效的避免了由于过刻而导致图案的均一性较差的问题，进一步增强了相关显示装置的显示效果。