[发明专利]一种基于3D打印技术制备铜基电接触材料的制备方法有效
申请号: | 201811213927.8 | 申请日: | 2018-10-18 |
公开(公告)号: | CN109261961B | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
发明(设计)人: | 孔春才;杨志懋;杨森;周超;陈立;王亚平;张垠 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学 |
主分类号: | B22F3/105 | 分类号: | B22F3/105;B22F3/10;C23C10/22;C22C27/06;H01H11/04;B33Y10/00 |
代理公司: | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人: | 覃婧婵 |
地址: | 710049 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 打印 技术 制备 铜基电 接触 材料 方法 | ||
1.一种基于3D打印技术制备铜基电接触材料的制备方法,其特征如下,所述方法包括以下步骤:
(1)建立铬Cr的三维骨架模型,3D打印成型;
(2)在步骤(1)得到的Cr三维骨架中置入软磁相铁Fe、钴Co、或者镍Ni细丝芯结构,并将形成的含有铁芯丝、或钴芯丝、或镍芯丝的铬Cr骨架烧结处理,所述烧结温度为1100-1400℃,其中,所述细丝芯结构的直径为0.5-2 mm;以及,
(3)将高导电相Cu渗入步骤(2)得到的骨架中。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,在步骤(1)中,在计算机中建立耐电弧烧蚀相Cr的三维骨架模型,采用选择性激光烧结技术进行3D打印成型。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,在步骤(3)中,将高导电相Cu通过熔渗方法渗入步骤(2)骨架中制备出可控微结构的铜铬铁、或铜铬钴、或铜铬镍触头材料。
4.如权利要求2所述的方法,其特征在于,在步骤(1)中,所述选择性激光烧结是在氩气或者氮气气氛下进行的。
5.如权利要求3所述的方法,其特征在于,在步骤(3)中,所述熔渗是在真空下进行的。
6.如权利要求1-5任一项所述的方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:
(1)将平均粒径20-100μm的铬粉倒入3D打印机的粉末缸中;
(2)在计算机中建立耐电弧烧蚀相Cr的三维骨架模型,骨架模型中预留有芯丝的孔阵列,以及导电相Cu的空间;
(3)选择选择性激光烧结技术进行耐电弧烧蚀相Cr的3D打印成型,该步骤(3)在氩气气氛下进行;
(4)将软磁相细丝芯结构放入Cr三维骨架中的孔阵列中;
(5)将步骤(2)形成的含有铁芯丝、或钴芯丝、或镍芯丝的Cr骨架烧结处理,所述烧结温度为1100-1400℃;
(6)将高导电相Cu粉末作为原料,采用熔渗技术将高导电相Cu渗入步骤(5)形成的含有芯丝的Cr骨架中制备出铜铬铁、或铜铬钴、或铜铬镍复合触头材料,所述熔渗温度为1100-1300℃,所述熔渗在真空下进行。
7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述高导电相Cu粉末的粒径为0.5-5μm。
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