[发明专利]一种g-C3

权利要求书

1.g-C₃N₄光催化剂涂层在光催化降解气态污染物中的应用，其特征在于，方法如下：将g-C₃N₄光催化剂涂层置于含有气态污染物的容器内，光照1-3小时；所述气态污染物是异丙醇；

所述g-C₃N₄光催化剂涂层的制备方法，包括如下步骤：

1）取g-C₃N₄光催化材料和适量的氧化镁粉末于研钵内均匀研磨，然后逐滴加入磷酸二氢铝溶液，将研钵内的混合物均匀搅拌，然后以涂刷或喷涂的方式涂覆于基底上，将所得薄膜烘干；所述g-C₃N₄光催化材料为比表面积为0.5～300m²/g的纳米颗粒、纳米片及多孔结构；

2）将烘干后的薄膜经酸化处理和高温焙烧获得g-C₃N₄光催化剂涂层；

所述酸化处理是，将烘干后的薄膜置于浓度为0.001～10M的硫酸、盐酸、硝酸或氢氟酸中，酸化腐蚀20s；

所述高温焙烧是，空气或惰性气体下，于200℃下焙烧60min。

2.如权利要求1所述的应用，其特征在于，按质量比，g-C₃N₄光催化材料 : 磷酸二氢铝=1:0.1～1:5。

3.如权利要求1所述的应用，其特征在于，按质量比，g-C₃N₄光催化材料 : 氧化镁=1:0.5～1:2。

4.如权利要求1所述的应用，其特征在于，所述的基底为玻璃、陶瓷或金属材料。