[发明专利]新型稀土抛光粉及其制备方法

说明书

本发明提供一种新型稀土抛光粉及其制备方法。所述一种新型稀土抛光粉的制备方法包括如下步骤：步骤一、原料准备；步骤二、调浆、氟化、脱水；步骤三、烘干；步骤四、湿法球磨；步骤五、湿法混料；步骤六、干燥和高温煅烧；步骤七、气流磨。本发明提供的一种新型稀土抛光粉及其制备方法将烘干后的产品进行湿法研磨成球状，然后在包覆到传统工艺流程的产品上，再进行煅烧，这样烧后的产品基本上都是亚球形的，经过气流磨粉碎后，所生产的抛光粉没有锐角，形状都是亚球形的，不会对玻璃产生划伤，质量的到了极大的提升。

技术领域

本发明属于抛光粉生产技术领域，尤其涉及一种新型稀土抛光粉及其制备方法。

背景技术

传统使用的抛光粉的制备工艺方法简单，但是有一个极大的缺陷，该产品用在低端的领域内没有问题，如玻璃磨边；但是如果用在高端领域，如光学玻璃就会产生大量划伤。这主要是原料所造成的，是原料本身的缺陷，气流磨通过高压气体让不规则的粉体对撞，这样产生的小颗粒粉体各种形状都有，大部分颗粒都有锐角，锐角在玻璃上直接产生划伤，导致产品不合格。

发明内容

为解决现有抛光粉不能用于高端领域，粉体具有锐角，容易在玻璃上产生划伤，导致产品不合格的技术问题，本发明提供一种能用于高端领域，粉体不具有锐角，不容易在玻璃上产生划伤，不导致产品不合格的新型稀土抛光粉及其制备方法。

本发明提供的新型稀土抛光粉的所述抛光粉为亚球形抛光粉。

在本发明提供的新型稀土抛光粉一种较佳实施例中，所述抛光粉粒度分布范围为D₅₀＝1.3±0.2um。

本发明提供的新型稀土抛光粉的制备方法，包括以下步骤：

步骤一、原料准备：准备镧铈碳酸稀土，采用传统方法准备1.5±0.2um的抛光粉；

步骤二、调浆、氟化、脱水：将镧铈碳酸稀土加入水调浆，加入氢氟酸，进行氟化反应，再进行脱水，得到氟碳酸稀土；

步骤三、烘干：将氟碳酸稀土在430℃温度下进行烘干；

步骤四、湿法球磨：将烘干的氟碳酸稀土加入纯水及氢氟酸，进行湿法球磨，持续球磨到粉体中心粒度分布范围为D₅₀＝0.5±0.2um；

步骤五、湿法混料：加入纯水及传统方法准备的1.5±0.2um的抛光粉，进行混料；

步骤六、干燥和高温煅烧：先喷雾干燥再高温煅烧；

步骤七、气流磨：将获得的氟碳酸镧铈产物进行气流粉碎，得到粉体中心粒度分布范围为D₅₀＝1.3±0.2um的稀土粉。

在本发明提供的新型稀土抛光粉的制备方法一种较佳实施例中，所述步骤一中，所述传统方法包括如下步骤：

步骤一一、原料准备：准备镧铈碳酸稀土；

步骤一二、调浆、氟化、脱水：将镧铈碳酸稀土加入水调浆，加入氢氟酸，进行氟化反应，再进行脱水，得到氟碳酸稀土；

步骤一三、煅烧：在1020℃下对氟碳酸稀土进行煅烧；

步骤一四、气流磨：将煅烧后得到的氟氧化稀土进行气流磨，将产品中心粒度D₅₀控制在1.5±0.2um，得到所需抛光粉。

在本发明提供的新型稀土抛光粉的制备方法一种较佳实施例中，所述步骤二中，所述脱水步骤得到的废水用于所述调浆用。

在本发明提供的新型稀土抛光粉的制备方法一种较佳实施例中，所述步骤三中，所述脱水为离心脱水。

在本发明提供的新型稀土抛光粉的制备方法一种较佳实施例中，所述步骤四中，湿法球磨中，氟碳酸稀土、纯水及氢氟酸的重量比为50:50:1。