[发明专利]一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置

说明书

本发明提供了一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置，包括刷体和设置于刷体上的进水机构、驱动机构，刷体包括第一刷体和第二刷体，所述第二刷体为圆筒状的海绵，第一刷体的外壁还设有多个凹槽，凹槽的槽底还布设多个通孔，第一刷体分别通过两端的台阶孔连接进水机构和驱动机构；所述进水机构包括接头和进水柱，超纯水通过进水柱和接头流入第一刷体的内腔；所述驱动机构包括电机和连接于电机的联轴器，所述联轴器设置于第一刷体另一端的台阶孔内。本发明有效提高擦片清洗机对硅片的清洗效果，实现硅抛光片表面的高洁净度要求。

技术领域

本发明属于硅抛光片生产领域，涉及单晶硅抛光片双面擦片清洗机构，具体的说是一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置。

背景技术

单晶硅抛光片在生产加工中表面收到严重的污染，而抛光单晶硅片的表面洁净度是产品关键的质量参数之一，即使存在亚微米级别的微量污染也会导致后续器件加工的失效。单晶硅片经过化学机械镜面抛光后，表面会残留如被抛光硅片、抛光液、抛光蜡和大气环境带来的杂质颗粒、金属离子和有机污染物等杂质，必须经过湿法清洗去除硅片表面的污染物，以达到硅片超洁净度的要求。

擦片清洗机是一种进行硅片湿法清洗的机台，目前常见的用于单晶硅抛光片的擦片清洗机多利用柔软多孔的刷子转动来擦洗硅片的表面，纯水则通过刷子的轴心流向硅片表面，通过刷子的机械擦洗达到去除单晶硅抛光片表面污染物的目的，这类硅片清洗机所用的刷子体积较大，刷毛之间的缝隙也较大，同时为避免变形及对工件的损伤，对刷子的材质要求比较高；另有一种以平动的方式对硅片（单晶硅片）进行清洗的清洗装置，拥有较好的颗粒清洗能力，但用于清洗的纯水通常采用储存于水槽中浸泡或者通过喷头喷淋方式实现，前者需频繁更换或循环纯水，造成纯水的大量浪费，后者仅能喷淋到硅片未被清洗刷覆盖的地方，造成硅片表面脱落的颗粒不易被水流带走，吸附于刷子表面多孔结构中的颗粒易重新返回硅片表面，影响单晶硅硅片的清洗效果。

发明内容

为解决上述问题，本发明提供一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置，通过刷体、进水机构和驱动机构的设置，有效提高擦片机对硅片的清洗效果，实现硅抛光片表面的高洁净度要求。

为了实现上述目的，本发明采用的技术方案为：

一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置，其特征在于：包括刷体和设置于刷体上的进水机构、驱动机构，所述刷体包括第一刷体和第二刷体，所述第二刷体为圆筒状的海绵，所述第一刷体设置于第二刷体的内部，所述第一刷体为两端开口的圆筒壳体，第一刷体的外壁还设有多个凹槽，所述凹槽与第一刷体的中心轴线相平行，所述凹槽的槽底还布设多个通孔，所述通孔与第一刷体的内腔相连通，第一刷体的两端还分别设有台阶孔，所述第一刷体分别通过两端的台阶孔连接进水机构和驱动机构；所述进水机构包括接头和进水柱，所述接头包括挡板、连接柱和出水柱，所述连接柱设置于第一刷体一端的台阶孔内，连接柱的两端分别连接挡板和出水柱，所述出水柱设置于所述第一刷体的内部，所述挡板设置于第一刷体的外部，所述挡板、连接柱和出水柱上还分别设有互为连通的进水通道，所述进水柱设置于挡板的侧壁上；所述进水柱为圆筒形，进水柱的内腔还与挡板上的进水通道相连通；所述驱动机构包括电机和连接于电机的联轴器，所述联轴器设置于第一刷体另一端的台阶孔内，第一刷体和联轴器相连接的一端端面上预留有销孔，联轴器上的销还通过销孔连接于所述第一刷体；所述电机设置于第一刷体的外部，所述电机还沿第一刷体中轴线的方向连接于所述联轴器。

进一步的，所述刷体的两端还分别设有第一挡片和第二挡片，所述第一挡片和第二挡片均沿中心轴方向开设有安装孔，第一挡片和第二挡片还分别通过安装孔套设于挡板和联轴器的外壁处。

进一步的，所述第一挡片和所述第二挡片均为圆形板，挡片的外径大于第二刷体的直径。

进一步的，所述海绵为PVA海绵。

进一步的，所述凹槽设置为六个，相邻的两个凹槽之间的夹角均为60°。