[发明专利]一种多层光学薄膜、高亮度颜料及其制备方法在审
申请号: | 201811043935.2 | 申请日: | 2018-09-07 |
公开(公告)号: | CN110888187A | 公开(公告)日: | 2020-03-17 |
发明(设计)人: | 马道远 | 申请(专利权)人: | 深圳市融光纳米科技有限公司 |
主分类号: | G02B1/115 | 分类号: | G02B1/115 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 钟子敏 |
地址: | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 多层 光学薄膜 亮度 颜料 及其 制备 方法 | ||
本申请公开了一种多层光学薄膜、高亮度颜料及其制备方法,该多层光学薄膜,用于制作高亮度颜料,包括:中间层;以及设置在中间层两侧的交替层叠的第一折射率光学膜层和第二折射率光学膜层,第一折射率小于第二折射率;其中,中间层的材料的折射率大于第一折射率;多层光学薄膜的表面设置有第二折射率光学膜层。通过上述方式,本申请能够提供结构简单且具有优异反射性能的多层光学薄膜,进而降低制作成本,并简化制作工艺。
技术领域
本申请涉及发光颜料技术领域,特别是涉及一种多层光学薄膜、高亮度颜料及其制备方法。
背景技术
随着纳米技术的广泛应用,各界开始采用光学材料薄膜制造颜料,该光学材料薄膜的中心部分两侧依次由高折射率光学膜层和低折射率光学膜层交替层叠。亮度一直是颜料的基本衡量指标,为了提高颜料亮度,现有技术通常采用反射率更高的金属作为高折射率光学膜层的材料,例如银,或者增加高折射率光学膜层和低折射率光学膜层的总膜层数量。
本申请的发明人在长期的研发过程中,发现采用银作为高折射率光学膜层的材料方案时,由于银的价格昂贵,会增加制作成本,并且其会影响电磁性能,导致影响颜料效果;而增加高折射率光学材料层和低折射率光学材料层的总膜层数量的方案则增加了制作工艺步骤,也将导致制作成本增加。
发明内容
本申请主要解决的技术问题是提供一种多层光学薄膜、高亮度颜料及其制备方法,能够提供结构简单且具有优异反射性能的多层光学薄膜,进而降低制作成本,并简化制作工艺。
为解决上述技术问题,本申请采用的一个技术方案是:提供一种多层光学薄膜,该多层光学薄膜,用于制作高亮度颜料,包括:中间层;以及设置在中间层两侧的交替层叠的第一折射率光学膜层和第二折射率光学膜层,第一折射率小于第二折射率;其中,中间层的材料的折射率大于第一折射率;多层光学薄膜的表面设置有第二折射率光学膜层
其中,第二折射率光学膜层的材料包括二氧化钛、五氧化二钽、五氧化二铌、硫化锌或二氧化锆中的至少一种;第一折射率光学膜层的材料包括一氧化硅、二氧化硅或氟化镁中的至少一种。
其中,第一折射率光学膜层的材料为氟化镁;第二折射率光学膜层的材料为硫化锌。
其中,多层光学薄膜的总层数大于或等于5,且总层数为奇数。
其中,每一第一折射率光学膜层的光学厚度和每一第二折射率光学膜层的光学厚度均为20纳米-1000纳米。
其中,第一折射率光学膜层的光学厚度和第二折射率光学膜层的光学厚度均为四分之一入射光波长的整数倍,入射光波长的范围为380-780纳米。
为解决上述技术问题,本申请采用的一个技术方案是:提供一种高亮度颜料,其特征在于,高亮度颜料为上述多层光学薄膜的碎片,每一碎片的光学膜层的总层数与多层光学薄膜的总层数相同,每一碎片的光学膜层的光学性质与多层光学薄膜的光学性质相同。
为解决上述技术问题,本申请采用的一个技术方案是:提供一种高亮度颜料的制备方法,其特征在于,用于制备上述高亮度颜料,包括:提供一基层;在基层上设置多层光学薄膜;剥离多层光学薄膜;将多层光学薄膜碎化;过滤分离后得到高亮度颜料;其中,多层光学薄膜包括:中间层;以及设置在中间层两侧的交替层叠的第一折射率光学膜层和第二折射率光学膜层,第一折射率小于第二折射率。
其中,将多层光学薄膜碎化的步骤包括:将混有多层光学薄膜的溶液置入超声波溶液中,并进行超声处理以使多层光学薄膜碎化。
其中,在基层上依次设置多层光学薄膜的各个膜层的步骤之前,方法还包括:提供一脱膜剂;将脱膜剂涂覆于基层表面。
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