[发明专利]一种多层光学薄膜、高亮度颜料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811043935.2 申请日: 2018-09-07
公开(公告)号: CN110888187A 公开(公告)日: 2020-03-17
发明(设计)人: 马道远 申请(专利权)人: 深圳市融光纳米科技有限公司
主分类号: G02B1/115 分类号: G02B1/115
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 钟子敏
地址: 518000 广东省深圳市南*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 多层 光学薄膜 亮度 颜料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种多层光学薄膜,其特征在于,用于制作高亮度颜料,包括:

中间层;

以及设置在所述中间层两侧的交替层叠的第一折射率光学膜层和第二折射率光学膜层,所述第一折射率小于所述第二折射率;

其中,所述中间层的材料的折射率大于所述第一折射率;

所述多层光学薄膜的表面设置有所述第二折射率光学膜层。

2.根据权利要求1所述的多层光学薄膜,其特征在于,

所述第二折射率光学膜层的材料包括二氧化钛、五氧化二钽、五氧化二铌、硫化锌或二氧化锆中的至少一种;

所述第一折射率光学膜层的材料包括一氧化硅、二氧化硅或氟化镁中的至少一种。

3.根据权利要求2所述的多层光学薄膜,其特征在于,

所述第一折射率光学膜层的材料为氟化镁;

所述第二折射率光学膜层的材料为硫化锌。

4.根据权利要求1所述的多层光学薄膜,其特征在于,

所述多层光学薄膜的总层数大于或等于5,且所述总层数为奇数。

5.根据权利要求1所述的多层光学薄膜,其特征在于,

每一所述第一折射率光学膜层的光学厚度和每一所述第二折射率光学膜层的光学厚度均为20纳米-1000纳米。

6.根据权利要求5所述的多层光学薄膜,其特征在于,

所述第一折射率光学膜层的光学厚度和所述第二折射率光学膜层的光学厚度均为四分之一入射光波长的整数倍,所述入射光波长的范围为380-780纳米。

7.一种高亮度颜料,其特征在于,所述高亮度颜料为如上述权利要求1-6任一项所述的多层光学薄膜的碎片,每一所述碎片的光学膜层的总层数与所述多层光学薄膜的总层数相同,每一所述碎片的光学膜层的光学性质与所述多层光学薄膜的光学性质相同。

8.一种高亮度颜料的制备方法,其特征在于,用于制备如上述权利要求7所述的高亮度颜料,包括:

提供一基层;

在所述基层上设置多层光学薄膜;

剥离所述多层光学薄膜;

将所述多层光学薄膜碎化;

过滤分离后得到所述高亮度颜料;

其中,所述多层光学薄膜包括:中间层;以及设置在所述中间层两侧的交替层叠的第一折射率光学膜层和第二折射率光学膜层,所述第一折射率小于所述第二折射率。

9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述将所述多层光学薄膜碎化的步骤包括:

将混有所述多层光学薄膜的溶液置入超声波溶液中,并进行超声处理以使所述多层光学薄膜碎化。

10.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,在所述基层上依次设置多层光学薄膜的各个膜层的步骤之前,所述方法还包括:

提供一脱膜剂;

将所述脱膜剂涂覆于所述基层表面。

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