[发明专利]一种用于柔性ITO的打印图案化刻蚀方法在审

专利信息
申请号: 201811040477.7 申请日: 2018-09-07
公开(公告)号: CN110890479A 公开(公告)日: 2020-03-17
发明(设计)人: 吕文理;彭应全;丁思晗;周震康 申请(专利权)人: 中国计量大学
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310018 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 柔性 ito 打印 图案 刻蚀 方法
【说明书】:

本发明公开了一种用于柔性ITO基底的打印图案化刻蚀方法,包括以下步骤:(1)采用打印机在柔性ITO基底上打印出高质量的待刻蚀图案;(2)将打印好图案的柔性ITO基底用强酸溶液进行快速腐蚀;(3)脱去基底上打印图案的油墨层,进行清洗和干燥,得到图案化刻蚀的柔性ITO基底。本发明用于柔性ITO的打印图案化刻蚀方法具有操作工艺简单、成本低等优点,且能够实现精细复杂的刻蚀图案。

技术领域

本发明涉及光电子器件的制备领域,具体设计一种用于柔性ITO图案化刻蚀的方法。

背景技术

柔性显示屏和柔性有机发光二极管(OLED)都需要制备在柔性衬底上,常用的柔性衬底主要是聚合物材料衬底,例如聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚对苯二甲酸二醇酯(PET)、聚对萘二甲酸乙二醇酯(PEN)和聚酰亚胺等,其中实验室常用的有PET和PEN两种。通常在柔性衬底上利用溅射等工艺沉积了一层透明的导电金属氧化物(例如氧化铟锡,ITO)作为柔性OLED的阳极。在柔性ITO衬底上制备OLED时,需要进一步将ITO刻蚀成所需的电极图案。传统用于玻璃ITO等非柔性ITO基底刻蚀的方法有曝光刻蚀(中国发明专利CN105087009)和贴膜(胶带)刻蚀等,均无法用于柔性ITO图案化刻蚀。对于曝光刻蚀方法,所用的光刻胶比柔性衬底与ITO薄膜附着性更强,在脱膜过程中ITO会粘附在光刻胶上与柔性衬底脱离,造成刻蚀失败。而贴膜刻蚀方法除了无法实现复杂精细的刻蚀图案,粘性的贴膜会对柔性ITO薄膜造成损伤,并且贴膜与ITO之间的往往存在气泡会导致刻蚀的边界不整齐。针对柔性ITO的图案化刻蚀问题,柔性ITO厂商可以提供定制的图案化刻蚀服务,采用的是激光刻蚀方法。但是这种定制的ITO刻蚀服务大幅增加了柔性ITO的采购成本、延长了采购周期,另外由于ITO激光刻蚀机成本高昂,大多研究单位不会选择采购。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于柔性ITO薄膜的图案化刻蚀方法,可以替代厂商所采用激光刻蚀方法,为柔性ITO图案化刻蚀提供一种简单易操作的方案。

本发明采用如下技术方案。

一种用于柔性ITO的打印图案化刻蚀方法,包括如下操作。

利用打印机在柔性ITO基底上打印出高质量的待刻蚀图案,然后将打印好图案的柔性ITO基底用强酸溶液进行快速腐蚀,最后脱去打印图案的油墨层,进行清洗和干燥,从而得到图案化刻蚀的柔性ITO基底。

这种打印图案化刻蚀方法采用打印油墨作为ITO的掩蔽材料,容易清洗去除,不会对ITO薄膜造成损伤;其次,这种打印图案刻蚀方法比一般的曝光图案或者贴膜图案更加精细准确,能够实现精细复杂的ITO刻蚀图案;最后,这种打印图案化刻蚀方法比激光刻蚀方法经济、灵活。

附图说明

图1A至1D为本发明柔性ITO打印图案化刻蚀方法的步骤示意图。

图2为柔性ITO打印图案化刻蚀方法的流程图.。

具体实施方式

为了使本发明的目的及优点更加清楚明白,以下结合实施例对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明,并不用于限定本发明权利要求保护的范围,实施例中所涉及的各种材料、试剂,均可通过商业途径购买得到。

实施例。

以PET/ITO 基底刻蚀为例,如图1A至1D以及图2所示,柔性ITO的打印图案化刻蚀方法步骤如下。

用打印机直接在PET/ITO基底(图1A)上直接打印需刻蚀的图案,打印图案后的柔性ITO基底如图1B所示,11为PET柔性衬底,12为ITO薄膜,13为打印图案的油墨层。打印机可以是喷墨或者激光打印机,对打印质量要求较高,需要打印的油墨或者粉足够厚且足够致密。

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