[发明专利]综合孔径辐射计虚拟相关稀疏成像方法及系统

权利要求书

1.一种综合孔径辐射计虚拟相关稀疏成像方法，其特征在于，该方法包括如下流程步骤：

步骤S110：构建稀疏天线阵列，对待成像地面场景进行观测，获取辐射观测信号；

步骤S120：对所述辐射观测信号两两进行复相关，得到所述稀疏天线阵列观测到的可见度函数；

步骤S130：在可见度函数实测点的周围进行插值，确定待插值点位置，模拟待插值点位置的可见度函数值，得到插值后的可见度函数；

步骤S140：对所述插值后的可见度函数进行傅里叶反变换，得到重建的地面场景亮温图；

稀疏天线阵列采用22单元的“Y”型稀疏阵列方式；

步骤S120具体包括：

对所述观测信号两两进行复相关，得到稀疏天线阵列观测到的可见度函数V，可见度函数所在的平面被称为uv平面；

步骤S130中，所述可见度函数值的模拟具体包括：

步骤S131：在所述uv平面选取偏移量d，根据实测点位置为(u₀,v₀)，确定待插入点位置(u',v')；

其中，所述待插入点位置(u',v')为：

(u₀+d,v₀+d)、(u₀+d,v₀-d)、(u₀-d,v₀+d)或(u₀-d,v₀-d)中的一种；

步骤S132：根据待插值点的位置(u',v')，计算对应的基线位置(x',y')；

步骤S133：根据实测点(u₀,v₀)处的可见度函数V，确定待插值点处的可见度函数值V'；

基线位置(x',y')的计算方法为：x'＝u'×λ，y'＝v'×λ，其中，λ表示所述观测信号的波长；

步骤S133具体包括：

根据待插值点与实测点间的距离差，对实测点处可见度函数值进行相位偏移和幅度矫正，得到待插值点处的虚拟相关值，作为所述可见度函数值V'；

步骤S140具体包括：

地面场景T(x,y)与可见度函数V(u,v)存在以下对应关系：

其中，j表示复数虚部；

根据所述对应关系，对插值点的可见度函数进行傅里叶反变换，即可得到地面场景亮温图；

待成像地面场景为根据地面不同物体的反射率构建的仿真地面场景；或者，

所述待成像地面场景为实际地面场景，还包括：

天线接收单元，用于对待成像地面场景进行观测，获取辐射观测信号；

复相关单元，用于对所述辐射观测信号进行两两复相关，获取实际点的可见度函数；

虚拟相关插值单元，用于对实际点的可见度函数进行虚拟相关插值，增加虚拟采样点，获取插值后的可见度函数；

场景重建单元，用于对所述插值后的可见度函数进行傅里叶反变换，获取地面场景亮温图；

地面场景模拟单元，用于根据地面不同物体的反射率，构建仿真地面场景。