[发明专利]一种三层膜结构涂层及其制备方法有效
申请号: | 201810986292.9 | 申请日: | 2018-08-28 |
公开(公告)号: | CN109082641B | 公开(公告)日: | 2020-05-22 |
发明(设计)人: | 邱万奇;杨宇;王耀辉;程奕天;焦东玲;刘仲武;钟喜春 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/06;C23C14/08 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 罗啸秋 |
地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 三层 膜结构 涂层 及其 制备 方法 | ||
1.一种三层膜结构涂层的制备方法,其特征在于:所述三层膜结构涂层由双相Cr+α-(Al,Cr)2O3基体粘结层、单相α-(Al,Cr)2O3支撑层和单相纳米α-Al2O3表层构成;所述制备方法包括如下制备步骤:
(1)基体温度在550℃~650℃,CrAl合金靶溅射功率密度在8~10W/cm2范围,Ar+O2混合气中的O2分压在6%~9%范围条件下,通过直流磁控溅射在基体表面沉积得到Cr+α-(Al,Cr)2O3基体粘结层;
(2)基体温度在550℃~650℃,CrAl合金靶溅射功率密度在7~10W/cm2范围,Ar+O2混合气中的O2分压为10%~15%范围条件下,通过直流磁控溅射在Cr+α-(Al,Cr)2O3基体粘结层表面沉积得到α-(Al,Cr)2O3支撑层;
(3)基体温度在550℃~650℃,Al+α-Al2O3复合靶溅射功率密度在6~8W/cm2范围,Ar+O2混合气中的O2分压为12%~15%范围条件下,通过射频磁控溅射在α-(Al,Cr)2O3支撑层表面沉积得到致密单相纳米α-Al2O3表层。
2.根据权利要求1所述的一种三层膜结构涂层的制备方法,其特征在于:所述双相Cr+α-(Al,Cr)2O3基体粘结层的厚度为0.2~0.3μm,单相α-(Al,Cr)2O3支撑层的厚度为0.3~0.5μm,单相纳米α-Al2O3表层的厚度为1.0~1.5μm。
3.根据权利要求1所述的一种三层膜结构涂层的制备方法,其特征在于:所述的基体是指高速钢、热作模具钢或高温合金基体。
4.根据权利要求1所述的一种三层膜结构涂层的制备方法,其特征在于:步骤(1)和步骤(2)中所述CrAl合金靶中Al含量范围为35~50wt.%。
5.根据权利要求4所述的一种三层膜结构涂层的制备方法,其特征在于:步骤(1)所述Ar+O2混合气中的O2分压取值方法为:当CrAl合金靶中Al含量在50wt.%时,O2分压取9%,当Al含量为35wt.%时,O2分压取6%;步骤(2)所述Ar+O2混合气中的O2分压取值方法为,当CrAl合金靶中Al含量在50wt.%时,O2分压取15%,当Al含量为35wt.%时,O2分压取10%。
6.根据权利要求1所述的一种三层膜结构涂层的制备方法,其特征在于:步骤(3)中所述Al+α-Al2O3复合靶中α-Al2O3的含量为10~15wt.%。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华南理工大学,未经华南理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810986292.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类