[发明专利]一种三层膜结构涂层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810986292.9 申请日: 2018-08-28
公开(公告)号: CN109082641B 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 邱万奇;杨宇;王耀辉;程奕天;焦东玲;刘仲武;钟喜春 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/06;C23C14/08
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 罗啸秋
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 三层 膜结构 涂层 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种三层膜结构涂层的制备方法,其特征在于:所述三层膜结构涂层由双相Cr+α-(Al,Cr)2O3基体粘结层、单相α-(Al,Cr)2O3支撑层和单相纳米α-Al2O3表层构成;所述制备方法包括如下制备步骤:

(1)基体温度在550℃~650℃,CrAl合金靶溅射功率密度在8~10W/cm2范围,Ar+O2混合气中的O2分压在6%~9%范围条件下,通过直流磁控溅射在基体表面沉积得到Cr+α-(Al,Cr)2O3基体粘结层;

(2)基体温度在550℃~650℃,CrAl合金靶溅射功率密度在7~10W/cm2范围,Ar+O2混合气中的O2分压为10%~15%范围条件下,通过直流磁控溅射在Cr+α-(Al,Cr)2O3基体粘结层表面沉积得到α-(Al,Cr)2O3支撑层;

(3)基体温度在550℃~650℃,Al+α-Al2O3复合靶溅射功率密度在6~8W/cm2范围,Ar+O2混合气中的O2分压为12%~15%范围条件下,通过射频磁控溅射在α-(Al,Cr)2O3支撑层表面沉积得到致密单相纳米α-Al2O3表层。

2.根据权利要求1所述的一种三层膜结构涂层的制备方法,其特征在于:所述双相Cr+α-(Al,Cr)2O3基体粘结层的厚度为0.2~0.3μm,单相α-(Al,Cr)2O3支撑层的厚度为0.3~0.5μm,单相纳米α-Al2O3表层的厚度为1.0~1.5μm。

3.根据权利要求1所述的一种三层膜结构涂层的制备方法,其特征在于:所述的基体是指高速钢、热作模具钢或高温合金基体。

4.根据权利要求1所述的一种三层膜结构涂层的制备方法,其特征在于:步骤(1)和步骤(2)中所述CrAl合金靶中Al含量范围为35~50wt.%。

5.根据权利要求4所述的一种三层膜结构涂层的制备方法,其特征在于:步骤(1)所述Ar+O2混合气中的O2分压取值方法为:当CrAl合金靶中Al含量在50wt.%时,O2分压取9%,当Al含量为35wt.%时,O2分压取6%;步骤(2)所述Ar+O2混合气中的O2分压取值方法为,当CrAl合金靶中Al含量在50wt.%时,O2分压取15%,当Al含量为35wt.%时,O2分压取10%。

6.根据权利要求1所述的一种三层膜结构涂层的制备方法,其特征在于:步骤(3)中所述Al+α-Al2O3复合靶中α-Al2O3的含量为10~15wt.%。

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