[发明专利]一种镧铈钇稀土抛光粉及其制备工艺有效
申请号: | 201810975102.3 | 申请日: | 2018-08-24 |
公开(公告)号: | CN109111856B | 公开(公告)日: | 2021-01-19 |
发明(设计)人: | 史俊龙;雷美美;金玉培;王保国;李成荣 | 申请(专利权)人: | 甘肃稀土新材料股份有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02 |
代理公司: | 甘肃省知识产权事务中心代理有限公司 62100 | 代理人: | 马英 |
地址: | 730922*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 镧铈钇 稀土 抛光 及其 制备 工艺 | ||
一种镧铈钇稀土抛光粉,其成份按质量百分数计,La2O3/TREO:10‑40%,Y2O3/TREO:2‑40%,CeO2/TREO:20‑88%,F占TREO质量比的0%‑15%。该镧铈钇稀土抛光粉的比重为0.5‑0.7 g/cm3。本发明以含钇的稀土盐溶液为主要原料,以碳酸氢铵为沉淀剂进行合成,再经洗涤、过滤、煅烧、破碎分级等工序获得。钇的添加使抛光粉的形貌从根本上发生变化,由原来的不规则的块状变成规则的片状,浆料悬浮性更好,有效成分更多,从而增强了浆料的切削力。
技术领域
本发明涉及一种稀土抛光材料制备及应用技术领域,具体是一种镧铈钇稀土抛光粉及其制备工艺。
背景技术
稀土抛光材料主要是以氧化铈为基体的研磨材料,主要用于各种材料表面平整的冷加工,尤其是在玻璃行业的应用中特别突出,如手机玻璃、液晶显示器、光学透镜、球面光学玻璃、光学眼镜片、光掩模、电气·电子设备领域。随着行业制造技术的不断发展,对于玻璃的研磨要求具有更高的研磨速度及更好的表面精度。
氧化铈、镧铈或镧铈镨钕抛光粉是目前市场应用最广的稀土抛光材料,其他抛光材料都是通过掺杂非稀土元素来改变抛光粉的形貌、性能。目前已经出现了有关含钐的稀土抛光粉,如专利CN107556922、专利CN10760349。专利CN10760349公开了一种含钐的稀土抛光粉,该工艺是一种比较新颖的生产工艺,目的是降低成本,开拓氧化钐的应用市场,但该工艺用碳酸盐氟化,会使颗粒迅速长大,颗粒形貌不均匀。
氧化钇主要应用于陶瓷等行业,相对于其他稀土元素,氧化钇的应用方向较窄,库存量较大,本发明尝试把稀土钇元素加入到常规稀土抛光粉之中,意在拓宽氧化钇应用市场的同时得到特殊抛光性能的稀土抛光粉。
发明内容
本发明提供一种镧铈钇稀土抛光粉及其制备工艺,用该工艺制备的稀土抛光粉比重小,悬浮性好,切削力强,寿命长。
本发明所采用的技术方案为:
一种镧铈钇稀土抛光粉,其成份按质量百分数计,La2O3/TREO:10-40%,Y2O3/TREO:2-40%,CeO2/TREO:20-88%,F占TREO质量比的0%-15%。该镧铈钇稀土抛光粉的比重为0.5 -0.7 g/cm3。
一种镧铈钇稀土抛光粉的制备工艺,具体为:
a、将稀土的化合物配制为盐溶液,该稀土盐溶液中REO质量浓度为150g/ L~250g/L;
b、配制沉淀剂:配制碳酸氢铵溶液沉淀剂,质量浓度为150g/L~250g/L;
c、将1m3稀土盐溶液加到反应容器内,升温至60~90℃,向反应容器内加步骤b中配制的沉淀剂;
d、合成过程中测量体系PH值为7.0时结束反应,反应时间为2-6小时;
e、将沉淀物洗涤过滤,在750~950℃煅烧3-12h;
f、将煅烧产物与氟化剂混合氟化,再在1000~1100℃煅烧6-36h;
g、通过分级即得所述镧铈钇稀土抛光粉;
本发明所生产的稀土抛光粉比重小,为0.5-0.7 g/cm3,钇的添加使抛光粉的形貌从根本上发生变化,由原来的不规则的块状变成规则的片状,浆料悬浮性更好,有效成分更多,从而增强了浆料的切削力且具有长寿命,适用于磨耗度较小的光学玻璃及其它光学器件,本发明不仅拓宽了稀土钇的市场,同时发明出一款应用在硬度较大、较难抛光的光学玻璃上的稀土抛光粉。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于甘肃稀土新材料股份有限公司,未经甘肃稀土新材料股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810975102.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。