[发明专利]一种含钇的稀土抛光液及其制备方法

说明书

一种含钇稀土抛光液，包括含钇稀土抛光粉、分散剂、抗板结剂、增效剂和溶剂；其中，各组分的质量百分含量为：含钇稀土抛光粉为10~50%，分散剂为0.3%~1.5%，抗板结剂为0.5%~3%，增效剂为0.2%~5%，余量为溶剂；所述抛光液PH为7.5~9.5。本发明作为研磨材料，主要用途为手机盖板玻璃抛光及其它光学镜头的抛光。

技术领域

本发明涉及一种含钇的稀土抛光液及其制备方法，属于稀土材料制备技术领域。

背景技术

随着电子信息技术的迅猛发展，传统的应用于光电材料的抛光技术只能做到一般的平坦化处理，只有用性能更高的稀土抛光液CMP技术才能够实现对光电材料的全局平坦化处理，随着5G技术的推广，抛光液将占有更大的市场份额。

在已有的专利文献中稀土抛光液的制造原料主要为镧铈系列、镧铈镨系列、镧铈镨钕系列，纯铈系列，及部分掺杂铝、硅的稀土抛光粉，而在现有元素中掺杂钇元素的稀土抛光液还未见报道。低纯度的粗钇不仅价值低而且无法形成市场销售，造成大量资源积压。在稀土抛光液中添加钇元素不仅有很好的粒度分布及研磨性能，提高循环使用效率，而且能够将资源充分利用。

发明内容

本发明提供一种含钇稀土抛光液及其制备方法，制得的稀土抛光液松悬浮性好、不板结、切削速度快，玻璃表面光洁度好。

本发明所采用的技术方案为：

一种含钇稀土抛光液，包括含钇稀土抛光粉、分散剂、抗板结剂、增效剂和溶剂；其中，各组分的质量百分含量为：含钇稀土抛光粉为10~50%，分散剂为0.3%~1.5%，抗板结剂为0.5%~3%，增效剂为0.2%~5%，余量为溶剂；所述抛光液PH为7.5~9.5。

所述含钇稀土抛光粉其成份按稀土质量比计，CeO₂含量的比例占20～99.9%，Y₂O₃含量的比例占0.1%～80%。

所述含钇稀土抛光粉其成份按稀土质量比计，CeO₂含量的比例占10～99.8%，Y₂O₃含量的比例占0.1%～60%，La₂O₃含量的比例占0.1～30%。

所述含钇稀土抛光粉其成份按稀土质量比计，CeO₂含量的比例占20～99.5%，Y₂O₃含量的比例占0.1%～60%，La₂O₃含量的比例占0～30%，Pr₇O₁₁含量的比例占0～4%，Nd₂O₃含量的比例占0～4%。

一种含钇稀土抛光液的制备工艺，包括如下步骤：

a、制备稀土抛光粉前驱体，稀土抛光粉前驱体为稀土氧化物、碳酸盐、硫酸盐或硝酸盐的一种或多种混合物；

b、对上述前驱体进行氟化，控制氟的含量为TREO的0～20%，氟化剂是氟化氢铵、硅氟酸、氢氟酸、氟化钇、氟化钠和氟化铵的一种或多种混合物；氟化后烘干煅烧，烘干温度为200～900℃，煅烧温度为850～1100℃；

c、将煅烧产物破碎分级，破碎分级的粒度要求为D50：0.5～4.0um，D100:3～16um。

d、将破碎后的抛光粉按比例加入分散剂、抗板结剂、增效剂及溶剂，混匀调浆，球磨2

~4h，过筛灌装后即得到含钇稀土抛光液。

所述分散剂为六偏磷酸钠，所述抗板结剂为二氧化硅,所述增效剂为三聚磷酸钠和七钼酸铵，所述溶剂为水。