[发明专利]一种Pt改性的梯度Al涂层及其制备方法有效
申请号: | 201810955190.0 | 申请日: | 2018-08-21 |
公开(公告)号: | CN109136849B | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
发明(设计)人: | 孙超;孙健;刘书彬;李伟;姜肃猛;宫俊;何平;刘山川;褚天义 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | C23C14/16 | 分类号: | C23C14/16;C23C14/32;C23C14/58;C23C28/02;C25D3/52;C25D5/50 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 于晓波 |
地址: | 110016 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 pt 改性 梯度 al 涂层 及其 制备 方法 | ||
1.一种Pt改性的梯度Al涂层的制备方法,其特征在于:该方法包括以下步骤:
(1)MCrAlY底层的制备:采用电弧离子镀在高温合金基体上制备MCrAlY底层;所述电弧离子镀过程为:首先将真空室的真空度抽到6.0×10-3~1.0×10-2Pa,通入高纯Ar气,压强升到5.0×10-2~3.0×10-1Pa;然后对基体进行溅射清洗,清洗工艺参数为:靶材和样品间的距离为200~300mm,脉冲偏压为-400~-800V,占空比为20~40%,清洗时间为5~8min;然后沉积MCrAlY底层,工艺参数为:靶材和样品间的距离为200~300mm,弧电压为20~25V,弧电流为60~100A,脉冲偏压为-100~-250V,占空比为20~40%,沉积时间为200~500min;
(2)纯Pt层的制备:采用电镀方法在MCrAlY底层上制备一层纯Pt层;采用电镀方法制备纯Pt层过程中,采用的镀液组成为:二亚硝基二胺合铂(以Pt当量计算)4~10g/L,其余为去离子水;镀液pH值为1~3;电镀时镀液温度为50~90℃,电流密度为2~8A/dm2,电镀时间为25~60min;
(3)一次真空退火处理:电镀纯Pt层后在真空退火炉中进行一次退火处理,处理过程为:首先升温到500~700℃保温1~3h,以除去纯Pt层中残留的H2;然后升温到900~1000℃保温3~5h,以使纯Pt层和MCrAlY底层发生互扩散,保温结束后随炉冷却到室温;
(4)纯Al顶层的制备:采用电弧离子镀在纯Pt层上镀一层纯Al顶层;
(5)二次真空退火处理:升温到1000-1100℃保温1-5h,然后随炉冷却到室温;经二次真空退火处理后,在高温合金基体上获得Pt改性的梯度Al涂层。
2.根据权利要求1所述的Pt改性的梯度Al涂层的制备方法,其特征在于:步骤(1)中,高温合金基体在制备MCrAlY底层前,进行表面处理,表面处理过程为:对基体进行打磨和喷砂处理后,先在去离子水中超声15~30min,然后在丙酮中超声15~30min。
3.根据权利要求1所述的Pt改性的梯度Al涂层的制备方法,其特征在于:步骤(1)中,制备的MCrAlY底层的厚度为25~40μm。
4.根据权利要求1所述的Pt改性的梯度Al涂层的制备方法,其特征在于:步骤(2)中,镀Pt层的厚度为1~6μm。
5.根据权利要求1所述的Pt改性的梯度Al涂层的制备方法,其特征在于:步骤(3)中,经一次退火处理后,纯Pt层和MCrAlY底层发生互扩散,Pt元素向MCrAlY底层扩散深度为10~18μm。
6.根据权利要求1所述的Pt改性的梯度Al涂层的制备方法,其特征在于:步骤(4)中,采用电弧离子镀制备的纯Al顶层,其厚度为10-30μm。
7.根据权利要求1所述的Pt改性的梯度Al涂层的制备方法,其特征在于:步骤(3)和步骤(5)中,在一次和二次真空退火处理过程中,压强小于1.0×10-3Pa,升温速率小于8℃/min。
8.利用权利要求1所述方法制备的Pt改性的梯度Al涂层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院金属研究所,未经中国科学院金属研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810955190.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类