[发明专利]一种质量厚度为600-1200μg/cm2 有效
申请号: | 201810933398.2 | 申请日: | 2018-08-16 |
公开(公告)号: | CN109136832B | 公开(公告)日: | 2020-04-24 |
发明(设计)人: | 欧志清 | 申请(专利权)人: | 广州本康环保科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/02 | 分类号: | C23C14/02;C23C14/32;C23C14/14 |
代理公司: | 广州市时代知识产权代理事务所(普通合伙) 44438 | 代理人: | 卢浩 |
地址: | 510530 广东省广州市高新技术产业开发区科学大*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 质量 厚度 600 1200 cm base sup | ||
1.一种质量厚度为600-1200μg/cm2自支撑铟薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)在衬底表面沉积氯化钠脱模剂;
(2)采用90度磁过滤阴极真空弧(FCVA)系统在衬底表面沉积氧化锌缓冲薄膜;(3)将样品旋转180°,采用直管磁过滤阴极真空弧(FCVA)系统再次沉积铟薄膜;
(4)将得到的衬底放入盛有乙醇溶液的容器中进行脱模处理;
(5)用打捞板将铟薄膜捞起,得到质量厚度为600-1200μg/cm2自支撑铟薄膜。
2.根据权利要求1所述一种质量厚度为600-1200μg/cm2自支撑铟薄膜的制备方法,其特征在于,步骤(1)中所述衬底为玻璃或者单晶硅衬底。
3.根据权利要求1-2任一项所述一种质量厚度为600-1200μg/cm2自支撑铟薄膜的制备方法,其特征在于,步骤(1)中采用电子束热蒸发法沉积氯化钠脱模剂,所述氯化钠脱模剂厚度210-300nm。
4.根据权利要求3所述一种质量厚度为600-1200μg/cm2自支撑铟薄膜的制备方法,其特征在于,步骤(2)中采用氧化锌靶材作为90度FCVA阴极,起弧电流为60-90A,弯管磁场1.0-3.0A,束流40-100mA,负偏压为-100~-300V,沉积时间为10-30min,占空比为40-80%。
5.根据权利要求4所述一种质量厚度为600-1200μg/cm2自支撑铟薄膜的制备方法,其特征在于,步骤(2)中所述氧化锌缓冲薄膜厚度为100-200nm。
6.根据权利要求5所述一种质量厚度为600-1200μg/cm2自支撑铟薄膜的制备方法,其特征在于,步骤(3)中采用铟靶材作为直管FCVA阴极,起弧电流为70-100A,弯管磁场2.0-5.0A,束流50-120mA,负偏压为-150~-350V,沉积时间为60-120min,占空比为40-80%。
7.根据权利要求6所述一种质量厚度为600-1200μg/cm2自支撑铟薄膜的制备方法,其特征在于,步骤(3)中所述铟薄膜厚度为5-30μm。
8.根据权利要求7所述一种质量厚度为600-1200μg/cm2自支撑铟薄膜的制备方法,其特征在于,步骤(4)中所述乙醇溶液含水质量为5%-10%。
9.一种质量厚度为600-1200μg/cm2自支撑铟薄膜,其特征在于采用如权利要求1-8任一项所述制备方法制备。
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