[发明专利]双面连续镀膜的真空蒸镀装置

权利要求书

1.一种双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其特征在于，其包括真空腔体(1)、设置在真空腔体(1)内的转向辊机构(2)和两组蒸镀机构(3)，所述两组蒸镀机构(3)上下对称设置，所述转向辊机构(2)设置两组蒸镀机构(3)的一侧，待蒸镀的薄膜沿一组所述蒸镀机构(3)进入经所述转向辊机构(2)后沿另一组所述蒸镀机构(3)用于连续对薄膜的上下两面进行真空蒸镀。

2.根据权利要求1所述的双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀机构(3)包括卷绕组件(31)、冷却组件(32)和蒸发组件(33)，所述卷绕组件(31)和冷却组件(32)依次排列，所述蒸发组件(33)元设置在冷却组件(32)的底部，所述转向辊机构(2)设置两组蒸镀机构(3)的卷绕组件(31)的一侧；所述卷绕组件(31)用于收卷、放卷以及传送薄膜，所述冷却组件(32)用于在蒸镀过程中降低薄膜表面的温度，所述蒸发组件(33)用于在薄膜表面蒸镀金属镀层。

3.根据权利要求2所述的双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其特征在于，所述卷绕组件(31)包括收放卷(311)、摆架单元(312)，所述收放卷(311)用于收卷或者放卷待蒸镀的薄膜；所述摆架单元(312)包括架体(313)、跟随辊(314)、展平辊(315)和引导辊(316)，所述跟随辊(314)、展平辊(315)和引导辊(316)依次设置在架体(313)上，所述跟随辊(314)靠近收放卷(311)设置，所述引导辊(316)靠近冷却单元(32)设置；所述架体(313)绕引导棍(316)所在的中心转动用于带动跟随辊(314)与收放卷(311)上的薄膜的膜面最外层保持固定的距离。

4.根据权利要求3所述的双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其特征在于，所述跟随辊(314)、展平辊(315)和引导辊(316)均设置至少一个。

5.根据权利要求3所述的双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其特征在于，所述冷却组件(32)包括冷却主鼓(321)、前展平辊(322)、后展平辊(323)，所述前展平辊(322)和后展平辊(323)分别设置在冷却主鼓(321)的两侧。

6.根据权利要求4所述的双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其特征在于，所述展平辊(315)、前展平辊(322)和后展平辊(323)均采用弯辊、胶条辊、多段辊或者开幅辊。

7.根据权利要求4所述的双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其特征在于，所述展平辊(315)、前展平辊(322)和后展平辊(323)均采用光面过辊或者毛面过辊。

8.根据权利要求2所述的双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其特征在于，所述蒸发组件(33)采用电阻式蒸发、中频感应坩埚蒸发或电子束蒸发。

9.根据权利要求2所述的双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其特征在于，所述转向辊机构(2)包括第一过辊(21)、第二过辊(22)、第三过辊(23)，所述第一过辊(21)和第三过辊(23)靠近分别设置在两组蒸镀机构(3)的冷却组件(32)的一侧，所述第二过辊(22)设置在第一过辊(21)和第三过辊(23)之间。

10.根据权利要求1-9任意一项所述的双面连续镀膜的真空蒸镀装置，其特征在于，其还包括第一观察视窗(4)和第二观察视窗(5)，所述第一观察视窗(4)和第二观察视窗(5)设置在真空腔体(1)上分别用于观察两组蒸镀机构(3)的工作状态。