[发明专利]表面具凸纹结构薄膜的曲面基板及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201810891845.2 申请日: 2018-08-07
公开(公告)号: CN110824844A 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 翁沛喜;许铭案 申请(专利权)人: 许铭案;翁沛喜
主分类号: G03F7/09 分类号: G03F7/09;G03F7/11
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 程殿军
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 表面 具凸纹 结构 薄膜 曲面 及其 制造 方法
【说明书】:

本发明涉及曲面基板制造技术领域,具体公开了一种表面具凸纹结构薄膜的曲面基板的制作方法,包含:形成一光阻层于一曲面基板上;以激光直写影像方式于该光阻层进行曝光、固化,以形成至少一图案;及对该光阻层进行显影,以去除未被曝光的该光阻层的部分而使该曲面基板形成具有该至少一图案的该光阻层。本发明还提供一种使表面具凸纹结构薄膜的曲面基板,其是根据本发明的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板的制作方法所制作。本发明提供的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板及其制作方法,运用激光直写影像技术(Laser Direct Imaging,LDI)与光阻制程,来解决过去运用光阻制程需要光罩的问题,实现无须光罩、制程简单、解析度高、低成本的特殊技术功效。

技术领域

本发明涉及曲面基板制造技术领域,特别涉及表面具凸纹结构薄膜的曲面基板及其制造方法。

背景技术

目前,智慧型装置如智慧型手机、智慧型手表、智慧型医疗器材等,都搭配有大屏幕让使用者观看屏幕上的资讯。这些具有大屏幕的装置,除了功能强大外,逐渐都走向个性化、美观的造型设计,包括外观、形状、色彩等。这些都必须透过令人激赏的外壳设计与制造来实现。而目前,曲面化的外壳造型,特别吸引人,也逐渐成为智慧型装置的未来潮流。

目前,对于智慧型装置的曲面化外壳的图案制作,有以下几种工法:第一种工法:转印技术。透过预先制作的平面图样,再转印到目标的曲面。此种工法的加工成本低,但加工速度慢、材料成本高,且线路解析度差。第二种工法:喷墨+激光雕刻。通过喷墨方法将颜料喷至目标的曲面,再通过激光雕刻的方式将图案刻出。此种工法加工成本高且加工速度慢,设备成本也很高,材料成本也高,优点是,线路解析度高,可达20um(微米)。第三种工法:如中国专利CN205318085U运用了曲面型光罩来进行曝光、显影制程,以实现曲面化外壳的图案制作,其具有材料成本低、线路解析度高、制程简单的优点;其缺点为,仍须使用曲面光罩。

因此,如何能开发出同时具备加工成本低、加工速度快、材料成本低、线路解析度高的多重优点,并且,可曲面外壳上制作出彩色图案之技术,成为智慧型装置厂商所希求的发展方向。

发明内容

为达上述目的,本发明提供了一个表面具凸纹结构薄膜的曲面基板及其制作方法,运用激光直写影像技术(Laser Direct Imaging, LDI)与光阻制程,来解决过去运用光阻制程需要光罩的问题,实现无须光罩、制程简单、解析度高、低成本的特殊技术功效。

本发明提供一种表面具凸纹结构薄膜的曲面基板的制作方法,包含:形成一光阻层于一曲面基板上;以激光直写影像方式于该光阻层进行曝光、固化,以形成至少一图案;及对该光阻层进行显影,以去除未被曝光的该光阻层的部分而使该曲面基板形成具有该至少一图案的该光阻层。

一种表面具凸纹结构薄膜的曲面基板,其特征在于:一曲面基板,该曲面基板的表面具有一凸纹结构薄膜,且该凸纹结构薄膜的图案的解析度介于0.1-100微米(um)之间。

为让本发明的上述和其他目的、特征、和优点能更明显易懂,下文特举数个较佳实施例,并配合附图,作详细说明如下(实施方式)。

附图说明

图1为本发明的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板的制作方法流程图的一实施例。

图2A-2J,为本发明的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板的制作方法中,制作于曲面基板的内表面的各个流程的曲面基板的剖面(沿A-A剖面线)及上视图。

图3A-3J,为本发明的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板的制作方法中,制作于曲面基板的外表面的各个流程的曲面基板的剖面(沿A-A剖面线)及上视图。

符号说明:

10曲面基板,20光阻层,20-1未曝光部分,20-2曝光固化部分,21沟槽,

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于许铭案;翁沛喜,未经许铭案;翁沛喜许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810891845.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top