[发明专利]表面具凸纹结构薄膜的曲面基板及其制造方法

权利要求书

1.一种表面具凸纹结构薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，包含：

形成一光阻层于一曲面基板上；

以激光直写影像方式于该光阻层进行曝光、固化，以形成至少一图案；及

对该光阻层进行显影，以去除未被曝光的该光阻层的部分而使该曲面基板形成具有该至少一图案的该光阻层。

2.如权利要求1所述的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，还包括：

于具有该至少一图案的该光阻层上形成一保护膜。

3.如权利要求2所述的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，该保护膜为：一碳化硅薄膜层、一氮化硼薄膜层、一氧化硅薄膜层、一氧化铝薄膜层或一氧化锆薄膜层。

4.如权利要求1所述的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，该曲面基板选自下列基板之一：一玻璃曲面基板、一蓝宝石曲面基板、一陶瓷曲面基板、一塑胶曲面基板与一高分子复合材料曲面基板。

5.如权利要求1所述的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，该曲面基板选自下列基板之一：一透明玻璃曲面基板、一透明蓝宝石曲面基板、一透明陶瓷曲面基板、一透明塑胶曲面基板与一透明高分子复合材料曲面基板。

6.如权利要求1所述的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，该图案的解析度介于0.1-100微米之间。

7.如权利要求1所述的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，该图案的解析度介于0.5-100微米之间。

8.如权利要求1所述的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，该图案的解析度介于1-100微米之间。

9.如权利要求1所述的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，该至少一图案的厚度介于0.1-100微米之间。

10.如权利要求1所述的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，该激光直写影像方式的激光源选自：激光二极体、固态激光、气体激光、准分子激光、飞秒激光与皮秒激光之一。

11.如权利要求10所述的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，该激光源的波长介于250-450纳米之间。

12.如权利要求10所述的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板的制作方法，其特征在于，该激光源的波长介于300-450纳米之间。

13.一种运用权利要求1所述的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板，其特征在于：一曲面基板，该曲面基板的表面具有一凸纹结构薄膜，且该凸纹结构薄膜的图案的解析度介于0.1-100微米之间。

14.如权利要求13所述的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板，其特征在于，该图案的解析度更介于0.5-100微米之间。

15.如权利要求13所述的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板，其特征在于，该图案的解析度更介于1-100微米之间。

16.如权利要求13所述的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板，其特征在于，该曲面基板选自下列基板之一：一玻璃曲面基板、一蓝宝石曲面基板、一陶瓷曲面基板、一塑胶曲面基板与一高分子复合材料曲面基板。

17.如权利要求13所述的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板，其特征在于，该曲面基板选自下列基板之一：一透明玻璃曲面基板、一透明蓝宝石曲面基板、一透明陶瓷曲面基板、一透明塑胶曲面基板与一透明高分子复合材料曲面基板。