[发明专利]一种真空镀膜机真空室基片架升降机构在审

专利信息
申请号: 201810859250.9 申请日: 2018-07-31
公开(公告)号: CN108774731A 公开(公告)日: 2018-11-09
发明(设计)人: 刘光斗;舒逸;李赞 申请(专利权)人: 湖南玉丰真空科学技术有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/22
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 411100 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 支撑杆 基片架 端板 真空室底板 升降机构 真空室 真空镀膜机 真空环境 波纹管 密封板 气缸 传输机构 顶端连接 独立传输 活塞杆端 密闭连接 气密性好 下基片 支撑座 伸入 穿透 穿过 室内 脱离
【权利要求书】:

1.一种真空镀膜机真空室基片架升降机构,其特征在于:在真空室底板下方固定有两个气缸,两个气缸的活塞杆端连接在同一块端板上,所述端板的两端各设有一支撑杆,所述支撑杆穿透真空室底板伸入至真空室内,支撑杆的顶端连接支撑座,支撑杆穿过真空室底板处设有密封板,在真空室与端板之间的支撑杆外套有波纹管,所述波纹管两端分别与密封板和端板密闭连接。

2.如权利要求1所述的一种真空镀膜机真空室基片架升降机构,其特征在于:所述支撑杆与密封板之间通过直线轴承连接。

3.如权利要求1所述的一种真空镀膜机真空室基片架升降机构,其特征在于:在密封板上设有导向杆,在支撑座上设有与导向杆配合的导向板。

4.如权利要求1所述的一种真空镀膜机真空室基片架升降机构,其特征在于:在支撑座上设有与基片架配合的两条凹槽。

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