[发明专利]一种高纯钽靶材的车削加工方法

说明书

一种高纯钽靶材的车削加工方法，涉及溅射靶材领域，其采用刀片沿高纯钽靶材的直径方向朝高纯钽靶材的中心进给的加工方式，并对车削速度进行了严格的限定。该车削加工方法的操作简单，对设备要求不高。经过发明人创造性劳动发现，针对钽靶材，当车削速度限定在250～300m/min时，加工后的高纯钽靶材表面质量较好，能够较好避免突起、凹坑等表面缺陷以及车削挤压层的出现。此外，在上述车削速度下，对于刀片的损耗较小，节约刀片的同时，还节约了更换刀片的时间，更加利于降低生产成本。

技术领域

本发明涉及溅射靶材领域，具体而言，涉及一种高纯钽靶材的车削加工方法。

背景技术

溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。是PVD(物理气相沉积)工艺不可或缺的消耗材料。

钽(Ta)，金属元素，主要存在于钽铁矿中，同铌共生。钽的硬度适中，富有延展性，可以拉成细丝式制薄箔。其热膨胀系数很小，每升高一摄氏度只膨胀百万分之六点六。除此之外，它的韧性很强，比铜还要优异。钽有非常出色的化学性质，其可以在表面生成稳定的五氧化二钽(Ta₂O₅)保护膜，从而具有极高的抗腐蚀性，无论是在冷和热的条件下，对盐酸、浓硝酸及“王水”都不反应。可用来制造蒸发器皿等，也可做电子管的电极、整流器、电解电容。医疗上用来制成薄片或细线，缝补破坏的组织。基于上述性质，钽是一种性质有优良，应用广泛的靶材材料。但是，现有用于加工钽靶材的技术中，会在靶材表面产生车削挤压层，影响溅射过程的均匀性。而要去除车削挤压层，达到溅射使用需求，则需要通过后续40min左右的研磨，耗费大量的人工成本和时间成本。

发明内容

本发明的目的在于提供一种高纯钽靶材的车削加工方法，其操作简单，对设备要求不高。加工后的靶材表面质量较佳，能够较好地满足溅射使用的需求；同时，其对于刀片的损耗较小，利于降低生产成本。

本发明的实施例是这样实现的：

一种高纯钽靶材的车削加工方法，其包括：

对高纯钽靶材进行车削；车削过程中，刀片沿高纯钽靶材的直径方向朝高纯钽靶材的中心进给，车削速度为250～300m/min。

本发明实施例的有益效果是：

本发明实施例提供了一种高纯钽靶材的车削加工方法，其采用刀片沿高纯钽靶材的直径方向朝高纯钽靶材的中心进给的加工方式，并对车削速度进行了严格的限定。该车削加工方法的操作简单，对设备要求不高。经过发明人创造性劳动发现，针对钽靶材，当车削速度限定在250～300m/min时，加工后的高纯钽靶材表面质量较好，能够较好避免突起、凹坑等表面缺陷以及车削挤压层的出现。此外，在上述车削速度下，对于刀片的损耗较小，节约刀片的同时，还节约了更换刀片的时间，更加利于降低生产成本。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。

下面对本发明实施例的一种高纯钽靶材的车削加工方法进行具体说明。

本发明实施例提供了一种高纯钽靶材的车削加工方法，其包括：

对高纯钽靶材进行车削；车削过程中，刀片沿高纯钽靶材的直径方向朝高纯钽靶材的中心进给，车削速度为250～300m/min。