[发明专利]一种诱导甘薯现蕾的方法

说明书

本发明公开一种诱导甘薯现蕾的方法，属于甘薯育种技术领域。所述方法在甘薯植株栽插后不进行嫁接和暗处理，直接利用NaCl溶液浇灌甘薯根部。本发明在甘薯植株栽插后，直接采用0.1％～0.5％的NaCl溶液浇灌甘薯根部，显著提早了甘薯现蕾时间，提高了现蕾数量。与传统重复法相比，该方法不需进行嫁接和暗处理，操作简便，节约资源和人力。

技术领域

本发明属于甘薯育种技术领域，涉及一种诱导甘薯现蕾的方法。

背景技术

甘薯是甘薯属旋花科中一个栽培种，为喜温、短日照块根作物，大多数品种在北纬23度以北的长日照条件下不能自然现蕾。甘薯为无性繁殖作物，品种间杂交是甘薯育种 的最主要途径，因此在特定区域必须采取人工诱导现蕾的方法，来解决杂交亲本的现蕾 向题。目前国内外主要使用“重复法”处理诱导甘薯现蕾，即将甘薯亲本嫁接在旋花科 近缘植物上如牵牛花、茑萝等，然后每天以8h的短白照处理，促进甘薯现蕾。该方法 需要短日照处理如暗室、暗箱等一套设备，且管理上较耗费人力。

甘薯现蕾早迟和现蕾数量与甘薯的品种特性和气候、营养物质等因素关系极为密切，其杂交结实率极易受外界因素的影响。为了探索在自然条件下促进甘薯现蕾的简便 而有效的方法，本发明采用盐胁迫处理诱导甘薯现蕾，为提高甘薯有性杂交结实率，获 得大量实生种子提供技术支持。

发明内容

本发明的目的在于提供一种诱导甘薯现蕾的方法。该方法采用盐胁迫处理诱导甘薯 现蕾，显著提早了甘薯现蕾时间、提高了现蕾数量。

实现本发明目的的技术方案如下：

一种诱导甘薯现蕾的方法，甘薯植株栽插后不进行嫁接和暗处理，直接利用NaCl溶液浇灌甘薯根部。

优选地，为提前现蕾时间和提高现蕾数量，采用质量浓度为0.1％～0.5％的NaCl溶 液浇灌甘薯根部。

更优选地，为获得较好的处理效果，采用质量浓度为0.1％～0.5％的NaCl溶液分别 在甘薯植株栽插后30d、40d和50d各浇灌NaCl溶液一次。

所述的甘薯可以是徐紫薯8号、徐紫薯3号和美国红等。

与现有技术相比，本发明具有以下优点：

本发明在甘薯植株栽插后，采用0.1％～0.5％的NaCl溶液浇灌甘薯根部，显著提早 了甘薯现蕾时间，提高了现蕾数量。与传统重复法相比，该方法不需进行嫁接和暗处理，操作简便，节约资源和人力。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面通过实施例，对本发明进行进一步详细说明。但是应该理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并 不用于限制本发明的范围。

下述实施方式中所用的实验方法如无特殊说明，均为常规方法。下述实施方式中所 用的材料、试剂等，如无特殊说明，均可从商业途径获得。

甘薯品种为江苏徐州甘薯研究中心选育的高花青素甘薯新品种徐紫薯8号、徐紫薯 3号和美国红。徐紫薯8号在徐州地区易现蕾，现蕾早、数量多；徐紫薯3号和美国红 不易现蕾且数量少。试验地点为江苏徐州甘薯研究中心试验基地(北纬34度)。

本发明所提供的药剂通过商业途径获得。

实施例1

1.不同浓度NaCl溶液处理甘薯植株

试验于江苏徐州甘薯研究中心试验示范基地进行。甘薯植株徐紫薯8号、徐紫薯3号、和美国红于2017年5月20日种植在直径25cm的花盆内，每盆2株，设3个重复。 分别于栽插后30d、40d和50d根部浇灌0％(CK)，0.1％，0.5％，1.0％，2.0％NaCl溶 液，浇水处理组为对照。管理措施统一按照常规田间要求。