[发明专利]一种气压调节装置、气压调节方法及晶圆刻蚀设备有效
申请号: | 201810672246.1 | 申请日: | 2018-06-26 |
公开(公告)号: | CN108847382B | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 袁鹏华 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 智云 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 气压 调节 装置 方法 刻蚀 设备 | ||
1.一种气压调节装置,其特征在于,所述气压调节装置包括:承载结构、压力片、通气管、排气管、气缸、活塞及阀门;
所述压力片与所述承载结构形成一中空结构,所述承载结构上安装所述通气管和所述排气管,所述通气管和所述排气管分别与所述中空结构相通,所述气缸安装在所述排气管上并与所述排气管相通,所述活塞设置在所述气缸内以控制所述气缸中的气压;所述阀门设置于通气管和排气管上,其中,所述气缸体积大于所述中空结构的体积;
所述阀门的数量为多个,分别为:第一阀门,第二阀门和第三阀门;所述第一阀门安装在所述通气管上;所述第二阀门和所述第三阀门安装在所述排气管上,所述排气管上依次设置所述第二阀门、所述气缸和所述第三阀门,所述第二阀门靠近所述承载结构。
2.如权利要求1所述的气压调节装置,其特征在于,所述活塞在所述气缸内移动。
3.一种气压调节方法,其特征在于,采用如权利要求1所述的气压调节装置;
工作时:所述压力片受到所述中空结构内气体的正向压力和与所述正向压力相对的反向压力,使所述压力片保持平衡;
结束时:
控制所述阀门使得气缸内的气体全部排出,并使得所述活塞移动,抽出所述中空结构中的气体,然后去除反向压力。
4.如权利要求3所述的气压调节方法,其特征在于,所述阀门的数量为多个,分别为:第一阀门,第二阀门和第三阀门;所述第一阀门安装在所述通气管上;所述第二阀门和所述第三阀门安装在所述排气管上;抽出所述中空结构中的气体包括:
关闭第一阀门和第二阀门;
打开第三阀门,将气缸内的气体全部排出;
关闭第三阀门;
打开第二阀门,移动所述活塞,抽出所述中空结构中的气体。
5.如权利要求4所述的气压调节方法,其特征在于,所述反向压力包括:静电吸附力、重力或推力。
6.一种晶圆刻蚀设备,其特征在于,所述晶圆刻蚀设备包括静电吸盘、晶圆、通气管、排气管、气缸及活塞、第一阀门、第二阀门和第三阀门;
所述晶圆与所述静电吸盘形成一中空结构,所述静电吸盘上安装所述通气管和所述排气管,所述通气管和所述排气管分别与所述中空结构相通,所述气缸安装在所述排气管上并与所述排气管相通,所述活塞设置在所述气缸内以控制所述气缸中的气压;所述第一阀门安装在所述通气管上;所述第二阀门和所述第三阀门安装在所述排气管上,所述排气管上依次设置所述第二阀门、所述气缸和所述第三阀门,所述第二阀门靠近所述静电吸盘。
7.如权利要求6所述的晶圆刻蚀设备,其特征在于,所述晶圆与所述静电吸盘之间的静电产生吸附力。
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