[发明专利]一种CF基板及其制作方法、显示面板在审
申请号: | 201810659930.6 | 申请日: | 2018-06-25 |
公开(公告)号: | CN108873451A | 公开(公告)日: | 2018-11-23 |
发明(设计)人: | 郭文帅 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 | 代理人: | 潘中毅;熊贤卿 |
地址: | 430000 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 色阻层 玻璃基板 显示面板 遮光层 液晶显示面板 析出 平坦效果 依次层叠 影像残留 光阻层 两层 色阻 制备 制作 离子 液晶 覆盖 | ||
本发明提供一种CF基板及其制作方法、显示面板,该方法包括下述步骤:在玻璃基板上制备遮光层;在所述玻璃基板上形成色阻层,且所述色阻层覆盖所述遮光层;在所述色阻层上形成依次层叠的至少两层光阻层。本发明可以阻止色阻离子析出到液晶内部,避免液晶显示面板出现影像残留,并且CF基板的平坦效果也会更好。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种CF基板及其制作方法、显示面板。
背景技术
TFT-LCD(thin film transistor-liquid crystal display,薄膜晶体管液晶显示器)主要部件包括:TFT、CF(Color Filter,彩色滤光片)基板、框胶、液晶、背光板等,其中,CF基板主要作用是遮光,提供色彩及支撑盒内(这里的盒,指的是CF基板与阵列基板相对设置、封装成盒)空间。CF制程包括BM(Black Matrix,黑色矩阵)制程、色阻制程、OC(OverCoating,涂布)制程以及PS(Photo Spacer,间隙子)制程,其中,BM制程是在玻璃基板上制备BM,色阻制程是在玻璃基板上制备色阻层,OC制程是在色阻层上涂布一层光阻,OC制程的作用是:1.阻止色阻离子析出到液晶内部,避免在液晶内部电场的作用下,色阻离子残留在PI(聚酰亚胺)层表面,形成与液晶内部电场相反的电场,使得TFT-LCD出现影像残留;2.使CF基板表面平坦化,保证盒内液晶排布的一致性,而CF基板的实际生产过程中,难免会有外部环境及设备的微粒、纤维、金属等异物掉落到用于制备CF基板的玻璃基板上,在CF基板的后续生产及修补过程中,异物可能会携带光阻一起脱落,这样就会导致CF基板的避免不够平坦,同时还会出现色阻离子析出到液晶的内部。
OC制程中,在涂布光阻之后,没有清洗的制程,导致光阻表面的异物等不良高发。并且在后续的制程中,会将色阻置于高温环境下,而色阻在高温环境下,会有物质析出,当OC制程中的光阻出现脱落时,析出的物质也会从光阻脱落的区域掉出。
发明内容
为解决上述技术问题,本发明提供一种CF基板及其制作方法、显示面板,可以阻止色阻离子析出到液晶内部,避免液晶显示面板出现影像残留,并且CF基板的平坦效果也会更好。
本发明提供的一种CF基板的制作方法,包括下述步骤:
在玻璃基板上制备遮光层;
在所述玻璃基板上形成色阻层,且所述色阻层覆盖所述遮光层;
在所述色阻层上形成依次层叠的至少两层光阻层。
优选地,在所述色阻层上形成依次层叠的至少两层光阻层,具体为:
通过涂布的方式在所述色阻层上形成依次层叠的至少两层光阻层;
所述至少两层光阻层包含有第一光阻层和第二光阻层,所述第一光阻层位于所述色阻层和所述第二光阻层之间;所述第一光阻层的厚度范围为1~3微米,所述第二光阻层的厚度范围为1~2微米。
优选地,还包括下述步骤:
在所述至少两层光阻层中最上面的光阻层上形成多个间隙子;
在所述至少两层光阻层中最上面的光阻层上涂布形成PI层,且所述PI层覆盖所述多个间隙子。
优选地,所述多个间隙子包括主要间隙子和辅助间隙子,所述主要间隙子的高度大于所述辅助间隙子的高度。
优选地,在所述玻璃基板上形成色阻层,包括下述步骤:
在所述玻璃基板上涂布形成一层第一种颜色的色阻,并图形化所述第一种颜色的色阻,形成多个第一种颜色的色阻块;
在所述玻璃基板上涂布形成一层第二种颜色的色阻,并图形化所述第二种颜色的色阻,形成多个第二种颜色的色阻块;
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