[发明专利]一种具有双真空室的真空灭弧室结构

权利要求书

1.一种具有双真空室的真空灭弧室结构，其特征在于：包括外真空室（1）和内真空室（2），内真空室（2）设在外真空室（1）中；还包括静端件（3）和动端件（4），静端件（3）由下至上依次穿过外真空室（1）和内真空室（2），动端件（4）由上至下依次穿过外真空室（1）和内真空室（2）。

2.根据权利要求1所述的一种具有双真空室的真空灭弧室结构，其特征在于：所述内真空室（2）包括陶瓷绝缘外壳Ⅰ（5），陶瓷绝缘外壳Ⅰ（5）下端设有静盖板Ⅱ（6），陶瓷绝缘外壳Ⅰ（5）上端设有动盖板Ⅰ（7），动盖板Ⅰ（7）和静盖板Ⅱ（6）分别与陶瓷绝缘外壳Ⅰ（5）真空焊接。

3.根据权利要求1所述的一种具有双真空室的真空灭弧室结构，其特征在于：所述外真空室（1）包括陶瓷绝缘外壳Ⅱ（8），陶瓷绝缘外壳Ⅱ（8）下端设有静盖板Ⅰ（9）、陶瓷绝缘外壳Ⅱ（8）上端设有动盖板Ⅱ（10），静盖板Ⅰ（9）和动盖板Ⅱ（10）分别与陶瓷绝缘外壳Ⅱ（8）真空焊接。

4.根据权利要求1所述的一种具有双真空室的真空灭弧室结构，其特征在于：所述静端件（3）设在外真空室（1）下端部，静端件（3）依次通过静盖板Ⅰ（9）和静盖板Ⅱ（6）穿过外真空室（1）和内真空室（2），静端件（3）分别与静盖板Ⅰ（9）和静盖板Ⅱ（6）真空焊接。

5.根据权利要求1所述的一种具有双真空室的真空灭弧室结构，其特征在于：所述动端件（4）设在外真空室（1）上端部，动端件（4）中间部位通过波纹管Ⅰ（11）与动盖板Ⅰ（7）真空焊接，动端件（4）顶部通过波纹管Ⅱ（12）与动盖板Ⅱ（10）真空焊接。

6.根据权利要求1所述的一种具有双真空室的真空灭弧室结构，其特征在于：所述外真空室（1）和内真空室（2）均为密封的真空内部空间。