[发明专利]一种彩膜基板及其制作方法、显示面板

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：

基板；

形成于所述基板上的多个黑矩阵；

形成于所述多个黑矩阵上的色阻层；

形成于所述色阻层上的间隔子层，所述间隔子层由一整面性膜层以及突出于所述整面性膜层表面的多个主间隔子和多个副间隔子一体形成。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述多个主间隔子均匀布置于所述整面性膜层上，且相邻两个主间隔子之间设置一个副间隔子。

3.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述主间隔子和副间隔子均为柱状凸起，且所述主间隔子突出于所述整面性膜层的高度高于所述副间隔子突出于所述整面性膜层的高度。

4.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述柱状凸起的横截面形状为梯形、圆形或方形。

5.如权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，相邻主间隔子和副间隔子之间间距与相邻两个黑矩阵之间间距相等。

6.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供基板；

在所述基板上制作多个黑矩阵；

在所述多个黑矩阵上制作色阻层；

在所述色阻层上一体形成一整面性膜层以及突出于所述整面性膜层表面的多个主间隔子和多个副间隔子。

7.如权利要求6所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，

所述在所述基板上制作多个黑矩阵具体包括：

制作多个均匀布置在所述基板上的黑矩阵单元；

所述在所述多个黑矩阵上制作色阻层具体包括：

根据两个黑矩阵之间布置一个任意颜色的色阻的方式，在所述多个黑矩阵上依次制作红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻。

8.如权利要求6所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述在所述色阻层上制作间隔子层包括：

在所述色阻层表面涂覆一层光刻胶层；

采用半色调光掩膜工艺将所述光刻胶层图形化，形成包括有整面性膜层以及突出于所述整面性膜层表面的多个主间隔子和多个副间隔子的间隔子层。

9.如权利要求8所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述采用半色调光掩膜工艺将所述光刻胶层图形化包括：

使用设置有非透光区、部分透光区以及完全透光区的掩膜光罩对所述光刻胶层进行曝光；

所述光刻胶层对应所述非透光区的部分形成所述主间隔子；

所述光刻胶层对应所述部分透光区的部分形成所述副间隔子；

所述光刻胶层对应所述完全透光区的部分形成所述整面性膜层的表面。

10.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求所述1-5任一项所述的彩膜基板。