[发明专利]一种光学显示用紫外光固化氟硅离型膜的制备方法

说明书

本发明涉及一种光学显示用紫外光固化氟硅离型膜的制备方法，该方法为：先利用羟烷基硅油、含氟二元醇、二异氰酸酯在有机锡催化剂的作用下进行聚合反应，然后加入阻聚剂、丙烯酸羟基酯封端制备氟硅嵌段聚氨酯丙烯酸酯低聚物，再加入活性稀释单体、光引发剂混匀得离型剂，将该离型剂均匀涂布在有机基材上，经紫外光固化得离型膜。该光学显示用紫外光固化氟硅离型膜的离型力轻、雾度低、透光率与残余附着率高，涂膜与聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的附着力为1级，可广泛用于平板显示器用的偏光板、有机EL等各种显示器的构成部件。其制备方法简单，涂布固化过程中不需添加有机溶剂，有效避免了溶剂对人体与环境的伤害。

技术领域

本发明属于高分子材料制备领域，具体涉及光学显示用紫外光固化氟硅离型膜及其制备方法。

背景技术

离型膜现已被广泛应用于包装、印刷、柔性线路、激光防伪、反光材料、防水材料、胶粘制品、模切冲型加工等行业领域。光学显示用离型膜因其优异的特性而被用于平板显示器用的偏光板、有机EL等各种显示器的构成部件。

现有离型膜产品普遍存在雾度值、透光率低的缺点，限制了在光学领域的应用。而且传统的溶剂型氟硅离型膜主要是采用热固化的方式，在涂布固化过程中，通常需要加入有机溶剂，而这些有机溶剂具有一定的皮肤刺激性和挥发性，会对人体和环境造成严重的伤害和污染。专利CN10392334A公开了一种氟硅离型膜及其制备方法，在涂布固化过程中，使用了大量的甲苯、环己烷等有机溶剂，不可避免地会对人体产生伤害，同时造成环境污染。专利CN107236130A公开了一种紫外光固化氟硅离型剂及其制备方法，虽然可以提供较轻的离型力，但此离型剂与基材的附着力和残余附着率还有待进一步提高。这是因为含氟链段的引入，虽然提供了较低的表面张力，但也使得离型剂与基材表面结合牢度变差。

发明内容

技术问题：基于此，本发明提供光学显示用紫外光固化氟硅离型膜的制备方法。该离型膜制备方法简单，可以解决现有氟硅离型膜涂布固化过程中存在的有机溶剂的危害问题以及附着力与残余附着率低的缺陷，提高透光率，降低雾度。

技术方案：本发明是一种光学显示用紫外光固化氟硅离型膜的制备方法，该离型膜先利用羟烷基硅油、含氟二元醇、二异氰酸酯在有机锡催化剂的作用下进行聚合反应，然后加入阻聚剂、丙烯酸羟基酯封端制备氟硅嵌段聚氨酯丙烯酸酯低聚物，再加入活性稀释单体、光引发剂混匀得离型剂，将该离型剂均匀涂布于有机基材上，经紫外光固化制得。

该制备方法具体为：

步骤a)在室温下，将全氟一元羧酸、含胺基二元醇、多肽缩合试剂和复合溶剂加入到反应釜中混匀，于0～30℃反应12～24h，40～60℃减压蒸馏0.25～1h除去复合溶剂，每次按乙醚与全氟一元羧酸摩尔比为140：1～200：1，将乙醚加入反应釜中进行洗涤3～5次，过滤，滤饼40～60℃真空干燥12～24h，得含氟二元醇；

步骤b)在N₂氛、室温下，将二异氰酸酯、羟烷基硅油和含氟二元醇加入反应釜中，同时加入有机锡化剂，有机锡催化剂的用量为上述羟烷基硅油与二异氰酸酯总质量的0.3wt.％～0.5wt.％，60～80℃反应2～4h，降温至40～60℃，按丙烯酸羟基酯：羟烷基硅油的摩尔比为0.3:1～1.8:1，将丙烯酸羟基酯加入上述反应釜中，同时加入阻聚剂，阻聚剂的用量为丙烯酸羟基酯加入质量的0.1wt.％～1wt.％，反应2～5h，降至室温得氟硅嵌段聚氨酯丙烯酸酯低聚物；

步骤c)室温下，按总质量计，将占总质量20wt.％～50wt.％的活性稀释单体、占总质量1wt.％～10wt.％的光引发剂、将占总质量40wt.％～70wt.％步骤b)中制得的氟硅嵌段聚氨酯丙烯酸酯低聚物加入到反应釜中混匀，得离型剂，使用涂布器将该离型剂均匀涂布在洁净的有机基材上，经紫外光固化120～180s，得光学显示用紫外光固化氟硅离型膜。