[发明专利]低水雾冲水装置

说明书

本发明在于提供一种能防止水雾产生，避免影响制程的低水雾冲水装置。其技术手段：低水雾冲水装置包括定位、冲水单元及风刀帽；定位单元一端能与湿制程设备对应侧连接，具有导气通道；冲水单元垂直设置于定位单元自由端处，具有出、入水口；风刀帽包括环状壳体、开槽、及与开槽相连通的内、外出气缝；环状壳体套设于出水口外；开槽设于环状壳体垂直壁面顶端，并能对应于导气通道；内出气缝环设于环状壳体垂直壁面底端内侧，内出气缝间形成有第一间距；外出气缝环设于环状壳体垂直壁面底端外侧，外出气缝间形成有第二间距，另与内出气缝间形成有间隔，而各个外出气缝皆还与一个第一间距相对应。

技术领域

本发明涉及一种湿制程设备上的冲水结构，尤指一种低水雾冲水装置。

背景技术

在现今的半导体湿制程中，存在着许多清洗程序，通过冲水这一流程，来进行不同目标的应用，而在进行冲水的同时，难免会产生大量的水雾，对目标观测有一定的防碍，而且对机台的使用寿命也都有一定程度的影响。

针对水雾这一问题，湿制程设备上还会装置抽气设备，在冲水的同时，利用抽气设备将水雾抽出，以降低水雾的影响，但是整体而言，效果并不是很好。

有鉴于此，如何提供一种能解决前述问题，最大程度地避免水雾产生的低水雾冲水装置，便成为本发明欲改进的目的。

发明内容

本发明目的在于提供一种能防止水雾产生，避免影响制程的低水雾冲水装置。

为解决上述问题及达到本发明的目的，本发明的技术手段，是这样实现的，为一种低水雾冲水装置，能配合湿制程设备应用，其中：所述低水雾冲水装置，包括有一定位单元、一冲水单元、以及一风刀帽；所述定位单元，其一端能与湿制程设备对应侧连接，且具有一能对底侧面输出气体的导气通道；所述冲水单元，其垂直设置于该定位单元自由端处，具有一位于底端的出水口、及一位于顶端的入水口；所述风刀帽，其包括有一环状壳体、一开槽、至少两个内出气缝、及至少两个外出气缝；所述环状壳体，其套设于该出水口外；所述开槽，其设于该环状壳体垂直壁面顶端，并能对应于该导气通道；所述内出气缝，其环设于该环状壳体垂直壁面底端内侧，各自与该开槽相连通，且各个该内出气缝相互间形成有一第一间距；所述外出气缝，其环设于该环状壳体垂直壁面底端外侧，各自与该开槽相连通，且各个该外出气缝相互间形成有一第二间距，另与该内出气缝间形成有一间隔，而各个该外出气缝皆还与一个该第一间距相对应。

更优选的是，所述导气通道，其还呈T字型设置，并包含有一主通道、及一出气通道，该主通道水平穿设于该定位单元固定端处，该出气通道垂直设于该主通道中央底侧，连通至该定位单元底侧面。

更优选的是，所述冲水单元，其还包括有一反射体、及两连接杆，该反射体间隔设于该出水口处，该连接杆分别设于该反射体两侧，且一端往斜上方连接至该出水口处边缘。

更优选的是，所述反射体，其顶端为平面，而底端为呈球状面设置。

与现有技术相比，本发明的效果如下所示：

第一点：本发明低水雾冲水装置，通过定位单元、冲水单元及风刀帽的配合应用，利用风刀帽产生高压风刀以形成风墙，能将冲水单元冲水时产生的水雾，限制在高压风墙内侧，解决水雾弥漫的问题。

第二点：本发明低水雾冲水装置，将冲水和风墙的功能整合在一起，能有效配合湿制程设备，不但整体而言，非常耐用可靠，最重要的是，还不会增加过多的成本，而且不管是新旧机台都能配合应用。

附图说明

图1为本发明的立体示意图。

图2为本发明的分解示意图。

图3为本发明中风刀帽的底视示意图。

图4为本发明的立体实施示意图。

图5为本发明的剖面实施示意图。