[发明专利]光路调整机构及其制造方法有效
| 申请号: | 201810524686.2 | 申请日: | 2018-05-28 |
| 公开(公告)号: | CN110542976B | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
| 发明(设计)人: | 周东华 | 申请(专利权)人: | 扬明光学股份有限公司 |
| 主分类号: | G02B7/182 | 分类号: | G02B7/182;G03B21/28;G02B7/198 |
| 代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 薛琦 |
| 地址: | 中国台湾新竹科*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 调整 机构 及其 制造 方法 | ||
1.一种光路调整机构,其特征在于,包括:
一承载座,具有相对的一第一侧与一第二侧;
一反射镜,设于所述承载座的所述第一侧;
一第一线圈、一第二线圈、一第三线圈与一第四线圈,设于所述承载座的所述第二侧;
一框架,设于所述承载座的外围;
一基座,设有一第一固定点与一第二固定点,且所述框架经由所述第一固定点与所述第二固定点固定于所述基座;
一第一对弹性件,所述第一对弹性件位于一第一轴上,并连接所述承载座与所述框架;以及
一第二对弹性件,所述第二对弹性件位于一第二轴上,并连接所述框架与所述基座,其中所述反射镜在所述承载座的所述第一侧形成一覆盖区域,且所述第一线圈与所述第二线圈设于相对于所述覆盖区域的所述承载座第二侧的对应区域内;所述第一线圈与所述第二线圈位在所述第一轴的两侧,所述第三线圈与所述第四线圈位在所述第二轴的两侧。
2.一种光路调整机构,其特征在于,包括:
一承载座;
一反射镜,设于所述承载座上,所述反射镜具有一反射面及相对于所述反射面的一背面;
一框架,设于所述承载座的外围;
一基座,设于所述框架的外围;
一第一轴,设于所述承载座与所述框架之间;
一第二轴,设于所述框架与所述基座之间;以及
一第一致动器与一第二致动器,设于所述承载座相对于所述反射镜的另一侧,且所述第一制动器包括一第一电磁铁及一第二电磁铁,所述第二制动器包括一第三电磁铁及一第四电磁铁;所述第一电磁铁及所述第二电磁铁位在所述第一轴的两侧,且所述第三电磁铁及所述第四电磁铁位在所述第二轴的两侧;
其中所述反射镜的所述背面与所述第一轴之间设有一距离,可使所述反射镜的所述反射面沿着所述第一轴作轴向摆动一角度。
3.如权利要求1或2所述的光路调整机构,其特征在于,所述光路调整机构更包含:
一间隔组件,设于所述承载座与所述反射镜之间。
4.如权利要求3所述的光路调整机构,其特征在于,所述间隔组件是由一垫片或一胶体所构成。
5.如权利要求1或2所述的光路调整机构,其特征在于,所述框架与所述承载座具有同一水平高度,且所述框架围绕所述承载座。
6.如权利要求1所述的光路调整机构,其特征在于,所述光路调整机构更包括:
对应所述第一线圈、第二线圈、第三线圈与第四线圈设置的第一永磁铁、第二永磁铁、第三永磁铁与第四永磁铁。
7.如权利要求1所述的光路调整机构,其特征在于,所述承载座与所述框架、所述第一对弹性件及所述第二对弹性件一体成型。
8.如权利要求2所述的光路调整机构,其特征在于,所述光路调整机构更包括:
对应所述第一致动器设置的至少一永磁铁及对应所述第二致动器设置的至少一永磁铁。
9.如权利要求2所述的光路调整机构,其特征在于,所述第一致动器位于所述承载座的下方且包含至少一线圈,且所述第二致动器位于所述框架的下方且包含至少一线圈,所述第一致动器用以使所述反射镜以所述第一轴为轴心作动,且所述第二致动器用以使所述反射镜以所述第二轴为轴心作动。
10.一种光路调整机构制造方法,其特征在于,包括:
提供一承载座,所述承载座具有相对的一第一侧及一第二侧;
提供第一对弹性件和第二对弹性件,其中所述第一对弹性件位于一第一轴上,并连接所述承载座与一框架,所述第二对弹性件位于一第二轴上,并连接所述框架与一基座;
在所述第一侧设置一反射镜;以及
在所述第二侧设置第一线圈、第二线圈、第三线圈与第四线圈,其中所述反射镜在所述承载座的所述第一侧形成一覆盖区域,且所述第一线圈与所述第二线圈设于相对于所述覆盖区域的所述承载座第二侧的对应区域内;所述第一线圈与所述第二线圈位在所述第一轴的两侧,所述第三线圈与所述第四线圈位在所述第二轴的两侧。
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