[发明专利]一种工业喷嘴的抛光设备

说明书

本发明公开了一种工业喷嘴的抛光设备，包括机架、工作台、抛光台、升降杆、左导轨、右导轨、左滑块、右滑块、中心导轨、调节肘、升降支撑架、抛光轮结构、测量系统、控制系统、磁流变液体循环结构、收集槽、冷却系统、水泵和喷嘴，所述机架上设置工作台，所述工作台上设置有抛光台、测量系统和控制系统且测量系统设置在抛光台的正前方，所述工作台下设置有收集槽，所述抛光台上方设置有抛光轮结构且抛光轮结构与机架连接，所述机架内设置有磁流变液体循环结构，所述磁流变液体循环结构入口连接所述收集槽，所述磁流变液体循环结构左右两个出口都连接有喷嘴，所述左右喷嘴的位置和抛光台相配合且与抛光轮结构相配合。

技术领域

本发明涉及工业技术领域，具体是一种工业喷嘴的抛光设备。

背景技术

抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。现在的抛光技术有机械抛光、化学抛光、电解抛光、超声波抛光、流体抛光和磁研磨抛光，这些技术都处于发展阶段，存在设备和加工成本高，抛光工艺复杂和抛光精度等技术问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种工业喷嘴的抛光设备，以解决现有技术中的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种工业喷嘴的抛光设备，包括机架、工作台、抛光台、升降杆、左导轨、右导轨、左滑块、右滑块、中心导轨、调节肘、升降支撑架、抛光轮结构、测量系统、控制系统、磁流变液体循环结构、收集槽、冷却系统、水泵和喷嘴，所述机架上设置工作台，所述工作台上设置有抛光台、测量系统和控制系统且测量系统设置在抛光台的正前方，所述工作台下设置有收集槽，所述抛光台上方设置有抛光轮结构且抛光轮结构与机架连接，所述机架内设置有磁流变液体循环结构，所述磁流变液体循环结构入口连接所述收集槽，所述磁流变液体循环结构左右两个出口都连接有喷嘴，所述左右喷嘴的位置和抛光台相配合且与抛光轮结构相配合。

优选的，所述磁流变液体循环结构包括连接所述收集槽的冷却系统和左右两个水泵，所述左右水泵入口连接冷却系统，所述左右水泵的出口分别连接所述左右喷嘴。

优选的，所述抛光台上设置有中心导轨,所述中心导轨上活动连接有两个调节肘且调节肘沿着中心导轨位移，所述中心导轨上设置有升降支撑架且与中心导轨插人活动连接，所述升降支撑架左右侧分别设置有左导轨和右导轨且, 左导轨和右导轨通过升降杆与抛光台连接，所述左导轨上活动连接左滑块且左滑块沿着左导轨位移，所述右导轨上活动连接左滑块且左滑块沿着左导轨位移。

优选的，所述升降杆、左导轨、右导轨、左滑块、右滑块、中心导轨、调节肘和升降支撑架都是塑料材料制成。

优选的，所述中心导轨与测量系统连接。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明采用磁流变液体的喷嘴和抛光轮配合，磁流变液体循环结构对磁流变液体循环利用且磁流变液体无毒环保，加工低廉，节约了工作成本；通过左右滑块和调节肘对抛光物进行调节角度，提高了抛光物的抛光精度和形貌；通过控制系统、测量系统和两个喷嘴的精确控制，加强了抛光运作精度；工作工艺简单，易于操作。

附图说明

图1为本发明一种工业喷嘴的抛光设备的实施例结构示意图。

图2为本发明一种工业喷嘴的抛光设备的图1中的抛光台的主视图。

图中：1机架、2工作台、3抛光台、31升降杆、32左导轨、33右导轨、34左滑块、35右滑块、36中心导轨、37调节肘、38升降支撑架、4抛光轮结构、5测量系统、6控制系统、7磁流变液体循环结构、71收集槽、72冷却系统、73水泵、8喷嘴。

具体实施方式