[发明专利]喷嘴清扫装置、涂敷装置和喷嘴清扫方法

说明书

本发明在喷嘴清扫技术和使用喷嘴清扫技术的涂敷装置中提供通用性优异的喷嘴清扫技术，喷嘴清扫技术在将喷嘴抵接构件的凹部按压于喷嘴的顶端部的状态下，使喷嘴抵接构件相对于顶端部在喷出口的延伸方向上相对地移动来清扫上述顶端部。喷嘴清扫装置具备：喷嘴抵接构件，具有能够与设置有喷出涂敷液的狭缝状的喷出口的喷嘴的顶端部抵接的凹部；开口调整部，从与喷出口的延伸方向交叉的方向对喷嘴抵接构件施加应力来调整凹部的开口形状；以及驱动部，使喷嘴抵接构件在延伸方向上相对地移动，在将由开口调整部调整了开口形状的凹部按压于顶端部的状态下，驱动部使喷嘴抵接构件相对于顶端部在延伸方向上移动来清扫顶端部。

技术领域

本发明涉及涂敷装置和喷嘴清扫技术，其中，涂敷装置从设置于喷嘴的顶端部的排出口喷出涂敷液来涂敷液晶显示装置用玻璃基板、半导体基板、等离子显示器(PDP：Plasma Display Panel)用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、滤色片用基板、存储盘用基板、太阳能电池用基板、电子纸用基板等精密电子装置用基板、矩形玻璃基板、薄膜液晶用柔性基板、有机电致发光(EL：Electro Luminescence)用基板(以下简称为“基板”)，喷嘴清扫技术通过喷嘴抵接构件去除附着于上述喷嘴的顶端部的附着物来进行清扫。

背景技术

以往，为了向基板涂敷涂敷液，通常使用例如专利第5346643号公报中记载那样从喷出口喷出涂敷液的喷嘴。在这样的喷嘴中，存在附着在设置有喷出口的顶端部的侧面上的涂敷液等附着物干燥硬化而落在基板上导致污染基板的情况。因此，使用例如日本专利第5766990号公报所记载的涂敷液的去除技术。日本专利第5766990号公报所记载的狭缝式涂敷机(涂敷装置)中，在通过喷嘴开始涂敷前执行喷嘴清扫处理。在该喷嘴清扫处理中，通过在使设置于擦拭头的喷嘴抵接构件与喷嘴的顶端部抵接的状态下使擦拭头相对喷嘴移动，去除附着于喷嘴的顶端部的侧面的涂敷液。

在上述日本专利第5766990号公报所记载的狭缝式涂敷机中，对清扫构件形成有具有与喷嘴的顶端部配合的开口形状的凹部。而且，在将该凹部按压于喷嘴的顶端部的状态下，使擦拭头沿着喷嘴的顶端部移动来清扫顶端部。因此，在喷嘴的顶端部或清扫构件的凹部的规格产生变更的情况下，有必要重新制作具有与变更后的规格对应的开口形状的清扫构件，因此很难迅速地应对规格变更。特别地，在以成型品提供清扫构件的情况下为了解决毛刺、分型线(Parting Line)的问题，提供新的清扫构件需要时间。此外，在重复清扫动作的期间，因摩耗导致凹部的开口形状变形而不能得到期望的清扫效果，需要更换清扫构件。

为了解决这样的问题，如果能够调整用于清扫喷嘴的顶端部的喷嘴抵接构件的凹部的开口形状，则能够灵活地应对上述规格变更，并且通过随着喷嘴抵接构件的消耗调整开口形状来实现喷嘴抵接构件的长寿命化。但是，在现实中，并不存在具有这种高通用性的喷嘴清扫技术。

发明内容

本发明是为了解决上述问题而提出的，其目的在于，在喷嘴清扫技术和使用喷嘴清扫技术的涂敷装置中提供通用性优异的喷嘴清扫技术，喷嘴清扫技术在喷嘴抵接构件的凹部按压于喷嘴的顶端部的状态下，使喷嘴抵接构件相对于顶端部在喷出口的延伸方向上移动来清扫上述顶端部。

本发明的第一方式是喷嘴清扫装置，其特征在于，喷嘴抵接构件，具有能够与喷嘴的顶端部抵接的凹部，喷嘴设置有喷出涂敷液的狭缝状的喷出口；开口调整部，从与喷出口的延伸方向交叉的方向对喷嘴抵接构件施加应力来调整凹部的开口形状；以及驱动部，使喷嘴抵接构件在延伸方向上相对地移动。在将由开口调整部调整了开口形状的凹部按压于顶端部的状态下，驱动部使喷嘴抵接构件相对于顶端部在延伸方向上移动来清扫顶端部。

此外，本发明的第二方式的特征在于，具备：喷嘴，从狭缝状的喷出口喷出涂敷液；以及上述喷嘴清扫装置。