[发明专利]光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置及测量方法

权利要求书

1.一种光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置，所述光刻机包括投影物镜、照明系统和光源系统，其特征在于：所述在线测量装置包括探测器、掩模板、掩模台和工件台，所述探测器安装在所述工件台上，所述工件台位于所述投影物镜的像面处，所述掩模板安装在所述掩模台上，所述掩模台位于所述投影物镜的物面处，所述掩模板的中央开设有长方形孔，在线测量时，所述光源系统产生的光束经过所述照明系统后从所述长方形孔中透过，并将所述长方形孔经所述投影物镜成像到所述像面处，所述探测器用以探测所述像面处的成像。

2.根据权利要求1所述的一种光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置，其特征在于：所述掩模板由基底和不透光的膜层组成，所述长方形孔位于所述膜层的中央。

3.根据权利要求2所述的一种光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置，其特征在于：所述膜层为金属膜层，所述基底为熔石英基底。

4.根据权利要求2所述的一种光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置，其特征在于：所述长方形孔的尺寸等于所述投影物镜的物方视场的尺寸。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置，其特征在于：所述掩模台能够进行调整，使得所述掩模板位于所述投影物镜的物面处，所述工件台能够进行移动，使得所述探测器位于所述投影物镜的像面处，所述光束经所述投影物镜成像到所述像面处。

6.根据权利要求1-4中任一项所述的一种光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置，其特征在于：所述探测器为采用193nm紫外波段工作的CCD探测器。

7.根据权利要求1-4中任一项所述的一种光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置，其特征在于：所述光源系统为准分子光源系统，所述光束为准分子光束。

8.一种采用如权利要求1至7中任一项所述的光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置进行投影物镜数值孔径测量的在线测量方法，其特征在于：

S1：使所述光束由所述照明系统入射到所述掩模板上，调整所述掩模台使得所述掩模板位于所述投影物镜的物面处，所述光束透过所述掩模板的长方形孔后，经所述投影物镜成像到像面处，移动所述工件台使所述探测器位于所述投影物镜的像面处，由于成像尺寸超过探测器尺寸，所述探测器接收到所述掩模板长方形孔标记一端的成像，采集第一幅图像；

S2：移动所述工件台，所述探测器接收到所述掩模板的长方形孔另一端的成像，采集第二幅图像；

S3：在采集的所述第一幅图像中，选取五个像素点的坐标，利用其中三个像素点坐标构成第一个三角形，在采集的所述第二幅图像中选取两个像素点坐标，利用其中一个像素点与第一幅图像中的两个像素点，构成第二个三角形，根据海伦公式，推导计算并获得所述投影物镜的像方视场的长度L及宽度W。