[发明专利]一种基于多齿氮杂环三氮唑-偶氮生色团比率比色检测痕量Cu2+有效

专利信息
申请号: 201810411807.2 申请日: 2018-05-03
公开(公告)号: CN108844904B 公开(公告)日: 2020-11-13
发明(设计)人: 严正权;赵齐;袁华;徐心铭;胡蕾 申请(专利权)人: 曲阜师范大学
主分类号: G01N21/31 分类号: G01N21/31;G01N1/28;G01N1/38;G01N1/40
代理公司: 北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙) 11531 代理人: 于鹏
地址: 273165 山*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 多齿氮杂环三氮唑 偶氮 生色 比率 比色 检测 痕量 cu base sup
【说明书】:

发明涉及一种基于多齿氮杂环三氮唑‑偶氮生色团比率比色检测痕量Cu2+的方法,包括:多齿配体显色剂3,5‑二‑2’,4’,6’‑三羟基苯基偶氮三氮唑的制备及其对环境水样中痕量Cu2+的检测;向10mL的容量瓶依次加入浓度为4.0×10–5mol/L目标染料标准溶液1.0mL、无水乙醇2.0mL,pH值值为7.0的混合磷酸盐缓冲溶液1.0mL及待测铜样品1.0mL,定容,摇匀,空白试剂(未加待测样品)作参比,1cm比色皿,测量300~800nm范围内的吸收光谱,根据600nm和396nm处吸光度比值(A600/A396)计算待测样品中痕量Cu2+的含量。本方法具有操作简单,响应速度快,分区间线性范围宽,背景吸收干扰小等,可快速、准确地用于水环境痕量Cu2+的即时检测。

技术领域

本发明属于环境中痕量Cu2+比率比色传感领域,特别涉及一种基于多齿氮杂环三氮唑- 偶氮生色团比率比色检测痕量Cu2+的方法。

背景技术

随着现代工业、农业和矿产业的高速发展,大量富含铜(Cu2+)等重金属离子废水的恣意排放,致使水、土壤和食品等资源不同程度污染,对人类健康和生存构成了重大威胁,已成为经济和社会可持续发展的重大障碍。

尽管人们已设计制备了分析检测铜离子不同的有效方法,如X-射线衍射法、荧光光谱法、化学发光法、原子吸收光谱法和电化学方法等,虽然可以对目标待测物进行定性和定量分析,灵敏度高,但也需要昂贵的仪器和较长的分析周期,难以满足对环境重金属污染进行快速、即时检测的需求。比色-分析法,因其过程简单、操作简便、检测效率更高、甚至可以裸眼观察等直接进行现场监测等优点,成为替代昂贵仪器分析的首选,引起了越来越多科学工作者的重视并投入研究;其中,有机生色团因结构易于设计、光学性能可控、加工简单等优点,备受关注。

为了进一步提高水相中Cu2+比色检测的选择性、稳定性和灵敏度,降低分析检测误差,本发明拟构筑一种多齿配体显色剂3,5-二-2’,4’,6’-三羟基苯基偶氮三氮唑,旨在通过多齿 N、O等配位原子增强对重金属Cu2+的配位能力、利用空间尺寸效应提高配位的选择性以及双波长比率比色响应降低分析检测的背景干扰及系统误差等等,探讨它们在比色传感、富集与分离环境重金属Cu2+离子等方面的应用,实现对水样中的重金属Cu2+快速有效地裸眼检测,操作简单、便捷。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种基于多齿氮杂环三氮唑-偶氮生色团比率比色检测痕量Cu2+的方法,该方法具有操作简单,选择性好,系统误差小等优点,可准确的用于环境水样品中痕量Cu2+的裸眼、即时分析检测。

本发明的一种基于多齿氮杂环三氮唑-偶氮生色团比率比色检测痕量Cu2+的方法,主要内容包括:

(1)多齿显色剂3,5-二-2’,4’,6’-三羟基苯基偶氮三氮唑的制备

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于曲阜师范大学,未经曲阜师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810411807.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top