[发明专利]一种易熔金属重构电路装置

权利要求书

1.一种易熔金属重构电路装置，其特征在于：包括阴模（1）与阳模（2），所述阴模（1）倒扣于所述阳模（2）中，所述阴模（1）的横向与纵向分别设置有若干可活动调节的活动块（3），所述活动块（3）上设置有调节活动块（3）的调节装置，所述活动块（3）与阳模（2）底部抵接时形成封闭块（4），所述活动块（3）与阳模（2）底部不接触时形成电路块（5），所述阳模（2）中还设置有易熔金属（6）；所述易熔金属（6）在封闭块（4）与电路块（5）的共同作用下形成电路板，实现了电路重构。

2.根据权利要求1所述的一种易熔金属重构电路装置，其特征在于：所述调节装置包括若干微型气缸（7）、安装架（8）以及设置在活动块（3）一端的连杆（9），所述的微型气缸（7）与所述连杆（9）相连，所述安装架（8）包括安装底架（10）以及若干支架（11），所述安装底架（10）设置在阴模（1）上，所述支架（11）横跨在安装底架（10）上，所述微型气缸（7）安装在支架（11）上。

3.根据权利要求2所述的一种易熔金属重构电路装置，其特征在于：所述微型气缸（7）还连接有用于控制微型气缸（7）活动的控制装置。

4.根据权利要求3所述的一种易熔金属重构电路装置，其特征在于：所述阳模（2）为第一矩形框结构，所述第一矩形框结构包括第一边框结构（12）以及由第一边框结构（12）围成的第一空腔结构（13）。

5.根据权利要求4所述的一种易熔金属重构电路装置，其特征在于：所述阴模（1）为第二矩形框结构，所述第二矩形框结构包括第二边框结构（14）以及由第二边框结构（14）围成的第二空腔结构。

6.根据权利要求5所述的一种易熔金属重构电路装置，其特征在于：所述易熔金属（6）设置在所述第一空腔结构（13）中。

7.根据权利要求6所述的一种易熔金属重构电路装置，其特征在于：所述活动块（3）设置在所述第二空腔结构中，所述第二空腔结构与所述第一空腔结构（13）大小尺度相匹配。

8.根据权利要求7所述的一种易熔金属重构电路装置，其特征在于：所述封闭块（4）的长度与所述阳模（2）的深度尺寸一致，所述封闭块（4）与所述第一空腔结构（13）的底部抵接时，所述第一边框结构（12）与所述第二边框结构（14）相抵接。

9.根据权利要求8所述的一种易熔金属重构电路装置，其特征在于：所述电路块（5）与封闭块（4）无缝滑动连接。

10.根据权利要求9所述的一种易熔金属重构电路装置，其特征在于：所述第一边框结构（12）上设置有溢流口（15）。