[发明专利]一种高世代钼靶材的生产方法

说明书

本发明公开了一种高世代钼靶材的生产方法，该生产方法包括：1、将两种粒径范围不同的钼粉在真空条件下混合，过筛后得到混合粉料；2、将混合粉料进行等静压处理；3、烧结处理；4、热轧处理；5；真空退火；6、水切割、铣削加工、磨床加工。通过该方法得到的钼靶材的长度可达3500mm以上，厚度≤30mm，宽度≤600mm，平面度小于0.08mm，钼含量≥99.97％，该生产方法的生产效率高，所得高世代钼靶材的致密度≥99.5％，钼靶材内部组织无气孔、裂纹、分层、夹杂等缺陷，其表面粗糙度＜0.6um，平均晶粒≤80um，晶粒均匀，可作为G10.5代线平面显示器生产的高纯钼靶；本发明提供的高世代钼靶材的生产方法，制备方法简单，生产成本较低，成品率高，有利于工业化生产。

技术领域

本发明属于金属材料加工技术领域，涉及一种高世代钼靶材的生产方法。

背景技术

钼作为一种稀有金属材料，具备高熔点、高电导率、低阻抗、耐腐蚀性等诸多优良性能。基于上述特性，钼靶材在电子行业中应用非常广泛，按市场需求量来分析，钼靶材主要应用于平面显示器、薄膜太阳能电池电极、配线材料以及半导体阻挡层材料等领域。尤其在平面显示器行业，钼使用在LCD的元器件中，可使液晶显示器在亮度、对比度、色彩以及寿命等方面的性能大大提升，因此成为了平面显示器溅射靶材的基础材料之一。

近年来，随着市场对平面显示器需求的不断扩大，PVD制备过程所需的溅射钼靶材市场需求量日趋旺盛。据统计，全球范围内钼靶材的市场需求量每年以20％的速度增长，中国作为全球制造业大国，其钼靶材的市场需求量更是每年以超过30％的速度增长。然而，平面显示器作为资金密集型的高技术含量产品，曾是中国进口仅次于集成电路板、石油、铁矿石的大宗商品。直至2010年，中国投资的首条8.5代线投产，才开始摆脱32寸和55寸液晶电视对国外面板的依赖。尤其随着我国以京东方、华星光电、中国电子等为代表的平面显示器企业G8.5代线、G10.5代线的投产，对高世代钼靶材的需求呈爆发式增长。

高世代钼靶主要是针对平面显示器行业中G8.5代线及G10.5代线所需要的高纯钼靶材，其所对应的基本尺寸见下表：

序号	代线	基本规格(厚度*宽度*长度，单位：mm)
1	G8.5	18*210*2650
2	G10.5	20*200*(3300～3500)

高世代高纯钼靶作为平面显示器生产的主要基础材料，市场对该类产品提出了较苛刻的技术要求，主要体现在如下三个方面：

1、杂质元素的控制：钼靶作为溅射中的阴极源，固体中的杂质以及气孔中的气体是沉积薄膜的主要污染源。因此，在钼靶生产过程中，需严格控制这些杂质元素，最大程度地降低其在钼靶中的含量；