[发明专利]用于降低激光诱导击穿光谱自吸收效应的基体稀释方法

权利要求书

1.用于降低激光诱导击穿光谱自吸收效应的基体稀释方法，其特征在于，该方法主要基于定标曲线，获得自吸收的临界浓度，从而采用空白基体对待测物进行浓度稀释，利用低浓度的线性定标曲线预测稀释后的待测物中元素浓度，并根据稀释比例换算出真实浓度值；

包括以下步骤：

（1）利用LIBS技术检测不同浓度梯度的待测物，获得待测元素的光谱强度信息；

（2）建立不同元素浓度与光谱强度的定标曲线，具体包括如下步骤：

全部浓度与光谱强度的二次拟合定标曲线：

低浓度与其光谱强度的一次拟合定标曲线：

其中y1和y2为光谱强度；x为待测元素的浓度；为二次拟合曲线的系数参数；

为一次拟合曲线的系数参数；

（3）联合y1和y2方程，求出其公共解，即为自吸收的临界浓度：

联合后的方程：

求得的公共解：

根据定标曲线的线性范围，选择正确的公共解作为自吸收的临界浓度；

（4）浓度预测：利用LIBS技术事先检测基体相同的待测物，获得待测元素的光谱强度信息，再根据二次拟合定标曲线，预测待测元素的浓度；

（5）基体稀释：若其预测浓度高于临界浓度，利用空白基体将待测物的元素浓度稀释γ倍；

（6）稀释后的浓度预测，利用LIBS装置检测稀释后的待测物，获得待测元素特征谱线的光谱强度信息，并利用建立的一次拟合定标曲线方程，计算出稀释后的待测元素浓度；

（7）真实浓度计算：根据稀释倍数γ，换算出待测元素的真实浓度：。