[发明专利]曝光设备及曝光方法有效
申请号: | 201810372237.0 | 申请日: | 2018-04-24 |
公开(公告)号: | CN110398880B | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | 蔡佩璁;罗忠文;潘信华 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 聂慧荃;闫华 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 设备 方法 | ||
1.一种曝光设备,包括:
一照明系统,配置用以产生一曝光用光照明一掩模载台上的一掩模,该照明系统包括:
一光学元件,配置于该曝光用光的一光路上,用以引导该曝光用光至该掩模上;
一检测器,配置用以感测来自该光学元件的该曝光用光的强度;以及
一驱动装置;
一控制系统,配置用以根据来自该检测器的一感测信号控制该驱动装置沿着不同于该光路的方向驱动该光学元件,使得该光学元件被该曝光用光照射的区域从一第一区域移动至不同于该第一区域的一第二区域;以及
一投影光学系统,配置用以将该掩模的图案转印至一基板载台上的一基板上。
2.如权利要求1所述的曝光设备,其中该照明系统还包括一光源、一照明光学系统及一送光系统,该曝光设备还包括一处理腔室,其中该掩模载台、该基板载台、该照明光学系统及该投影光学系统设置于该处理腔室内,该光源及该送光系统设置于该处理腔室外,且该送光系统配置用以将该光源所产生的该曝光用光传送至该照明光学系统,而该照明光学系统配置用以对该曝光用光塑形,再将经过塑形的该曝光用光照明至该掩模。
3.如权利要求2所述的曝光设备,其中该送光系统还包括一气密室,配置于该光源与该照明光学系统之间,用以将该曝光用光的该光路与外界环境隔绝,其中该光学元件、该检测器及该驱动装置设置于该气密室内。
4.如权利要求2所述的曝光设备,其中该照明光学系统还包括一气密室,配置用以将该曝光用光的该光路与该处理腔室的环境隔绝,其中该光学元件、该检测器及该驱动装置设置于该气密室内。
5.如权利要求1至4中任一项所述的曝光设备,其中该照明系统还包括一光学元件支架,配置用以将该光学元件安装于该曝光用光的该光路上,其中该光学元件支架包括一光学元件保持部及一固定基座,该光学元件保持部配置用以保持该光学元件,该固定基座固定于该照明系统中,且该固定基座具有一引导槽,可允许该光学元件保持部沿着该引导槽进行移动,该光学元件保持部穿过该引导槽而连接至该驱动装置。
6.如权利要求1至4中任一项所述的曝光设备,其中该照明系统还包括一光学元件支架,配置用以将该光学元件安装于该曝光用光的该光路上,其中该光学元件支架包括一光学元件保持部及一固定基座,该光学元件保持部配置用以保持该光学元件,该固定基座固定于该照明系统中,且光学元件保持部具有一枢轴,枢接至该固定基座及连接至该驱动装置。
7.一种曝光设备,包括:
一照明系统,配置用以产生一曝光用光照明一掩模载台上的一掩模,该照明系统包括:
一第一光学元件,配置于该曝光用光的一光路上,用以引导该曝光用光至该掩模上;
一第二光学元件,配置于该光路上,用以引导该曝光用光至该掩模上,且该第二光学元件相较于该第一光学元件靠近该光路的下游端;
一检测器,配置用以感测来自该第一光学元件的该曝光用光的强度;
一第一驱动装置;以及
一第二驱动装置;
一控制系统,配置用以根据来自该检测器的一感测信号控制该第一驱动装置沿着不同于该光路的方向驱动该第一光学元件,使得该第一光学元件被该曝光用光照射的区域从一第一区域移动至不同于该第一区域的一第二区域,且配置用以根据该控制系统的一数据库中所储存的一查找表决定该第二光学元件的移动方式、方向及移动量,并据此控制该第二驱动装置驱动该第二光学元件;以及
一投影光学系统,配置用以将该掩模的图案转印至一基板载台上的一基板上。
8.如权利要求7所述的曝光设备,其中该查找表包含可保持该曝光用光的该光路在一预定的光路范围内的多组该第一光学元件及该第二光学元件的对应位置数据。
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