[发明专利]壳体的表面处理方法、壳体

权利要求书

1.一种壳体的表面处理方法，其特征在于，包括：

在壳体的内表面喷涂底漆层，其中，所述壳体的透光率大于预定值，所述底漆层为无色、透明态；

在所述底漆层上镀金属膜层；

去除所述内表面上预设区域内的所述金属膜层；

在所述预设区域镀光学反光膜层。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述预设区域镀光学反光膜层的步骤，包括：

在真空环境下加热氧化物靶材；

控制使所述氧化物靶材转变为原子或分子；

控制所述原子或分子沉积或吸附在所述预设区域形成所述光学反光膜层。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述氧化物靶材包括二氧化硅和二氧化钛；

其中，所述光学反光膜层包括两层二氧化钛膜层和位于所述两层二氧化钛膜层之间的二氧化硅膜层。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述底漆层上镀金属膜层的步骤，包括：

在真空环境下加热金属靶材，使所述金属靶材转变为金属原子；

控制所述金属原子沉积或吸附在所述底漆层表面形成所述金属膜层。

5.如权利要求1至4任一项所述的方法，其特征在于，所述方法还包括:

在所述壳体的外表面喷涂以形成色漆层；在温度为75℃的环境下烘烤所述色漆层15-20分钟；

在烘烤后的色漆层上喷涂以形成第一面漆层；在温度为50-60℃、UV能量为800-1000毫焦/平方厘米的环境下烘烤所述第一面漆层。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述去除所述内表面上预设区域内的所述金属膜层的步骤之前，所述方法还包括：

在所述金属膜层上喷涂以形成中漆层；在温度为50-60℃、UV能量为500-700毫焦/平方厘米的环境下烘烤所述中漆层；

其中，所述去除所述内表面上预设区域内的所述金属膜层的步骤，包括：

去除所述内表面上预设区域内的所述金属膜层和所述中漆层。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述去除所述内表面上预设区域内的所述金属膜层和所述中漆层的步骤，包括：

在所述内表面上确定所述预设区域；

采用紫外光雕刻的方式去除所述预设区域内的所述金属膜层和所述中漆层。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述在所述预设区域镀光学反光膜层的步骤之前，所述方法还包括：

采用酒精和丙酮的混合液清洗所述预设区域。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述预设区域镀光学反光膜层的步骤之后，所述方法还包括：

在所述光学反光膜层上喷涂以形成第二面漆层；在温度为50-60℃、UV能量为800-1000毫焦/平方厘米的环境下烘烤所述第二面漆层。

10.一种壳体，其特征在于，所述壳体通过如权利要求1至9任一项所述的表面处理方法处理得到。