[发明专利]一种微电子元器件旋转清洗装置

说明书

本发明公开了一种微电子元器件旋转清洗装置，涉及微电子清洗设备技术领域，包括清洗槽、驱动装置和旋转喷射装置，所述清洗槽内部设有放置台，所述清洗槽正上方位置的设有旋转座一，所述支柱上端设有顶板，所述顶板中间位置设有旋转座二，所述伺服电机固定在电机固定板，所述链轮一固定在伺服电机的输出轴上，所述链轮二固定在旋转管上，所述旋转喷射装置包括旋转管和旋转喷射管，所述旋转管穿过旋转座一和旋转座二进入清洗槽内部，所述旋转喷射管上端与旋转管固定连接，所述旋转喷射管上设有竖直喷射管和横向喷射管。本发明整个装置结构紧凑，自动化程度高，对微电子元器件进行旋转清洗，采用清洗液喷射清洗，清洗效果好，清洗效率高。

技术领域

本发明涉及微电子清洗装置技术领域，具体为一种微电子元器件旋转清洗装置。

背景技术

微电子产品在生产加工过程中会因各种因素的影响导致产品受到污染。一般情况下，这些污染物会通过物理吸附或化学吸附等方式存留在产品表面，对产品的质量和使用寿命会造成严重的影响。例如，在生产硅片时，一些污染物的离子或粒子会存留在硅片表面或氧化膜中。这主要是因为生产加工过程中，硅片的化学键受到了破坏，加剧了污染物的吸附力度。这种情况给硅片的清洗工作带来了很大的难度。目前，我国使用的微电子清洗手段主要有两种，即干法清洗和湿法清洗。

旋转清洗法是一种综合性比较强的清洗技术，将化学溶剂法、机械清洗法进行有机结合，可以有效清洗硅片表面的污染物，清洗原理为：旋转清洗法通过机械的方法，使硅片保持高速旋转，在这种情况下，向硅片表面喷洒清洗液，使清洗液与硅片表面的污染物发生化学反应，溶解硅片表面的污染物，从而完成清洗工作。

发明内容

本发明目的在于提供一种微电子元器件旋转清洗装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

一种微电子元器件旋转清洗装置，包括清洗槽、驱动装置和旋转喷射装置，所述清洗槽上方设有延伸板，且延伸板与清洗槽固定连接，所述清洗槽内部设有放置台，所述延伸板左侧设有竖直架板，所述竖直架板上设有电机固定板，所述清洗槽正上方位置的设有旋转座一，且旋转座一通过螺栓固定在延伸板上，所述延伸板上设有四组支柱，所述支柱上端设有顶板，所述顶板中间位置设有旋转座二，且旋转座二通过螺栓固定在顶板上，所述驱动装置包括伺服电机、链轮一、链轮二和链条，所述伺服电机固定在电机固定板，所述链轮一固定在伺服电机的输出轴上，所述旋转喷射装置包括旋转管和旋转喷射管，所述链轮二固定在旋转管上，所述链条通过链轮一和链轮二张紧，所述旋转管穿过旋转座一和旋转座二进入清洗槽内部，且与旋转座一和旋转座二均固定连接，所述旋转喷射管上端与旋转管固定连接，所述旋转喷射管上设有竖直喷射管和横向喷射管。

优选的，所述竖直喷射管上设有横向喷头，所述横向喷射管上设有竖直喷头，所述横向喷头和竖直喷头均可为铜制喷头。

优选的，所述旋转喷射管上部设有流量调节阀。

优选的，所述放置台上设有定位销。

优选的，所述旋转管上端设有进水管接头，所述进水管接头与旋转管可转动连接。

优选的，所述清洗槽下方设有排污套管。

优选的，所述清洗槽正面需装防水门，所述防水门采用透明树脂材料制成。