[发明专利]显示基板及其制造方法、显示装置在审
| 申请号： | 201810291817.7 | 申请日： | 2018-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN108508643A | 公开（公告）日： | 2018-09-07 |
| 发明（设计）人： | 吕浩铭 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G09F9/00;H01L27/32 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 杨广宇 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显示基板 阻挡结构 衬底基板 封装区域 显示装置 非显示区域 抗冲击能力 有效显示区 延展性 金属材料 裂缝延伸 氧气通过 水汽 良率 封装 裂缝 制造 侵入 | ||
1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：衬底基板，以及设置在所述衬底基板上的阻挡结构；
所述阻挡结构由金属材料制成；
所述阻挡结构位于所述衬底基板的非显示区域，且与所述衬底基板上封装区域内设置的膜层结构之间存在间隙。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，
所述阻挡结构与所述衬底基板上的金属导电结构同层且间隔设置，且所述阻挡结构采用与所述金属导电结构相同的金属材料制成。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，
所述阻挡结构与所述衬底基板上的栅极金属层同层且间隔设置。
4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，
所述阻挡结构和所述栅极金属层均采用金属钼制成。
5.根据权利要求1至4任一所述的显示基板，其特征在于，所述阻挡结构为环绕在所述封装区域周围的环形结构。
6.根据权利要求1至4任一所述的显示基板，其特征在于，所述阻挡结构包括：多个间隔设置的环形结构，每个所述环形结构均环绕在所述封装区域周围。
7.一种显示基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：
采用金属材料在衬底基板上的非显示区域内形成阻挡结构；
所述阻挡结构与所述衬底基板上封装区域内形成的膜层结构之间存在间隙。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述采用金属材料在衬底基板上的非显示区域内形成阻挡结构，包括：
采用金属材料，通过一次构图工艺，在所述衬底基板上形成金属导电结构，以及位于所述非显示区域的阻挡结构；
所述阻挡结构与所述金属导电结构之间存在间隙。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述在所述衬底基板上形成金属导电结构，以及位于所述非显示区域的阻挡结构，包括：
采用金属钼材料，通过一次构图工艺，在所述衬底基板上形成栅极金属层，以及位于所述非显示区域的阻挡结构。
10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括：如权利要求1至6任一所述的显示基板。
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