[发明专利]一种曝光图案的补正方法和装置、曝光设备

权利要求书

1.一种曝光图案的补正方法，其特征在于，包括：

根据衬底基板上的曝光图案的至少一个第一测量尺寸、相对应的第二测量尺寸、相对应的设计尺寸、阈值系数对工作台相对于掩膜板的原设计坐标进行补偿，以得到所述工作台相对于所述掩膜板的补偿设计坐标；所述工作台用于支撑所述衬底基板；

根据所述补偿设计坐标控制所述工作台相对于所述掩膜板移动；

其中，所述衬底基板上的曝光图案是所述工作台相对于所述掩膜板位于所述原设计坐标对应的位置处的情况下形成的，所述第一测量尺寸为形成所述曝光图案后测得的所述曝光图案的尺寸，所述第二测量尺寸为在形成所述曝光图案后、在所述衬底基板上形成其他图案后测得的所述曝光图案的尺寸，所述设计尺寸为所述曝光图案的设计尺寸。

2.根据权利要求1所述的补正方法，其特征在于，所述根据衬底基板上的曝光图案的至少一个第一测量尺寸、相对应的第二测量尺寸、相对应的设计尺寸、阈值系数对工作台相对于掩膜板的原设计坐标进行补偿，以得到所述工作台相对于所述掩膜板的补偿设计坐标包括：

根据所述衬底基板上的曝光图案的至少一个所述第一测量尺寸、相对应的所述第二测量尺寸、相对应的设计尺寸，确定第一变化率；根据所述第二测量尺寸和相对应的所述设计尺寸，确定第二变化率；

根据相对应的所述第一变化率、所述第二变化率和所述阈值系数，确定所述曝光图案的综合变化率；

根据所述综合变化率对所述工作台相对于所述掩膜板的原设计坐标进行补偿，以得到所述工作台相对于所述掩膜板的补偿设计坐标。

3.根据权利要求2所述的补正方法，其特征在于，所述根据相对应的所述第一变化率、所述第二变化率和所述阈值系数，确定所述曝光图案的综合变化率包括：

按照C＝B+Δ×A，确定所述曝光图案的综合变化率C，其中A为所述第一变化量，B为所述第二变化率，△为所述阈值系数。

4.根据权利要求2所述的补正方法，其特征在于，所述根据所述综合变化率对所述工作台相对于所述掩膜板的原设计坐标进行补偿，以得到所述工作台相对于所述掩膜板的补偿设计坐标包括：

按照D＝D′×(1-C)，确定所述工作台相对于所述掩膜板的补偿设计坐标D，其中D’为所述曝光图案的原设计坐标，C为所述曝光图案的综合变化率。

5.根据权利要求1所述的补正方法，其特征在于，所述曝光图案为黑矩阵；所述衬底基板为彩膜基板的衬底基板，所述第二测量尺寸为在形成所述彩膜基板后测得的所述曝光图案的尺寸。

6.根据权利要求5所述的补正方法，其特征在于，所述阈值系数的取值范围是1～1.3。

7.根据权利要求1所述的补正方法，其特征在于，在根据衬底基板上的曝光图案的至少一个第一测量尺寸、相对应的第二测量尺寸、相对应的设计尺寸、阈值系数对工作台相对于掩膜板的原设计坐标进行补偿，以得到所述工作台相对于所述掩膜板的补偿设计坐标之前，所述补正方法还包括：

获取所述衬底基板上的至少一个所述曝光图案的第一测量尺寸和相对应的第二测量尺寸。

8.一种曝光图案的补正装置，其特征在于，包括确定模块和控制模块，其中：

所述确定模块用于根据衬底基板上的曝光图案的至少一个第一测量尺寸、相对应的第二测量尺寸、相对应的设计尺寸、阈值系数对工作台相对于掩膜板的原设计坐标进行补偿，以得到所述工作台相对于所述掩膜板的补偿设计坐标；所述工作台用于支撑所述衬底基板；

所述控制模块用于根据所述补偿设计坐标控制所述工作台相对于所述掩膜板移动；

其中，所述衬底基板上的曝光图案是所述工作台相对于所述掩膜板位于所述原设计坐标对应的位置处的情况下形成的，所述第一测量尺寸为形成所述曝光图案后测得的所述曝光图案的尺寸，所述第二测量尺寸为在形成所述曝光图案后、在所述衬底基板上形成其他曝光图案后测得的所述曝光图案的尺寸，所述设计尺寸为所述曝光图案的设计尺寸。