[发明专利]在电子地图上绘制分子式注记的方法及装置有效

专利信息
申请号: 201810254098.1 申请日: 2018-03-26
公开(公告)号: CN108509570B 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: 于国华;张发勇;李田;郑朝军 申请(专利权)人: 武汉智博创享科技股份有限公司
主分类号: G06F16/29 分类号: G06F16/29;G09B29/00
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 程殿军
地址: 430070 湖北省武汉市东湖新技术开发区*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电子地图 绘制 分子式 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种在电子地图上绘制分子式注记的方法,其特征在于,包括以下步骤:

获取电子地图上需要绘制注记的位置坐标,并将该位置坐标转换为像素坐标(x,y);

将注记需要显示的两个属性字段值分别作为分子式的分子和分母,测量分子式中分子和分母字符的长度,并转换为屏幕像素距离;

测量分子式中分母字符的高度,并转换为屏幕像素距离;

计算分式线的长度,获取分子和分母中屏幕像素长度较长的一个,将其长度或者其长度加上一个固定值作为分式线的长度;

计算分子字符、分式线以及分母字符绘制的位置;

依次将分子、分式线、分母绘制到电子地图相应位置上,形成一个完整的分子式注记,

其中,计算分子字符绘制的位置的具体方法为:分子字符绘制位置的原点参数值为绘制注记位置点x坐标减去分子字符像素长度的一半,基线参数值为绘制注记位置点y坐标减去一个自定义的固定像素值,

计算分式线绘制的位置的具体方法为:分式线绘制位置包括起点和终点,起点坐标X值为绘制注记位置点x坐标减去分式线像素长度的一半,起点坐标Y值为绘制注记位置点y坐标;终点坐标X值为绘制注记位置点x坐标加上分式线像素长度的一半,终点坐标Y值为绘制位置点y坐标,

计算分母字符绘制的位置的具体方法为:分母字符绘制位置的原点参数值为绘制注记位置点x坐标减去分母字符像素长度的一半,基线参数值为绘制位置点y坐标加上分母字符的高度像素值,再加上一个自定义的固定像素值,

所述测量分子式中分子和分母字符的长度之前还包括:智能确定分子和分母字符显示内容,具体为:设定分子或分母显示内容字符长度的指定阈值α,当分子或分母的字符长度小于等于该阈值时,分子或分母显示全部字符;当分子或分母的字符长度大于该阈值时,对分子或分母字符进行智能截取,截取原则是分子或分母保留从第0位字符到第α-3位字符的长度,结尾增加“...”号。

2.一种在电子地图上绘制分子式注记的装置,其特征在于,包括:

绘制注记位置坐标获取模块,用于获取电子地图上需要绘制注记的位置坐标,并将该位置坐标转换为像素坐标(x,y);

分子和分母字符长度测量模块,用于将注记需要显示的两个属性字段值分别作为分子式的分子和分母,测量分子式中分子和分母字符的长度,并转换为屏幕像素距离;

分母字符的高度测量模块,用于测量分子式中分母字符的高度,并转换为屏幕像素距离;

分式线长度计算模块,用于计算分式线的长度,具体为获取分子和分母中屏幕像素长度较长的一个,将其长度或者其长度加上一个固定值作为分式线的长度;

绘制位置计算模块,用于计算分子字符、分式线以及分母字符绘制的位置;

分子式注记绘制模块,用于依次将分子、分式线、分母绘制到电子地图相应位置上,形成一个完整的分子式注记,

其中,所述绘制位置计算模块采用以下方式计算分子字符绘制的位置:分子字符绘制位置的原点参数值为绘制注记位置点x坐标减去分子字符像素长度的一半,基线参数值为绘制注记位置点y坐标减去一个自定义的固定像素值,

所述绘制位置计算模块采用以下方式计算分式线绘制的位置:分式线绘制位置包括起点和终点,起点坐标X值为绘制注记位置点x坐标减去分式线像素长度的一半,起点坐标Y值为绘制注记位置点y坐标;终点坐标X值为绘制注记位置点x坐标加上分式线像素长度的一半,终点坐标Y值为绘制位置点y坐标,

所述绘制位置计算模块采用以下方式计算分母字符绘制的位置:分母字符绘制位置的原点参数值为绘制注记位置点x坐标减去分母字符像素长度的一半,基线参数值为绘制位置点y坐标加上分母字符的高度像素值,再加上一个自定义的固定像素值,

所述分子和分母字符长度测量模块在测量分子式中分子和分母字符的长度之前,还用于智能确定分子和分母字符显示内容,具体为:设定分子或分母显示内容字符长度的指定阈值α,当分子或分母的字符长度小于等于该阈值时,分子或分母显示全部字符;当分子或分母的字符长度大于该阈值时,对分子或分母字符进行智能截取,截取原则是分子或分母保留从第0位字符到第α-3位字符的长度,结尾增加“...”号。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉智博创享科技股份有限公司,未经武汉智博创享科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810254098.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top