[发明专利]一种高光刀电弧涂层工艺

说明书

本发明公开一种高光刀电弧涂层工艺，其特征在于，包括以下步骤，a、使用真空阴极电弧离子镀对高光刀具表面进行涂层处理，通过改变氮气的通气量，观察刀具表面的液滴数量以及尺寸；b、涂层偏压选择，在相同条件下，通过改变脉冲偏压来改变涂层偏压的情况，观察刀具表面的液滴数量以及尺寸，处理工艺完毕。既保证了涂层液滴，也可以增加涂层的结合力，刀具寿命提高一倍。

技术领域

本发明属于刀具加工制造领域，具体地涉及高光刀电弧涂层工艺。

背景技术

当前，在通信、计算机、网络等电子信息技术相互融合发展的大趋势下，中国消费电子产业融合创新、发展的势头越来越明显，随着3C行业的发展，对于3C的加工工艺有了更高的要求，特别是推行指纹识别技术有了高光刀的产生，整个指纹扫描系统包括扁平的蓝宝石晶体、不锈钢检测圈以及指纹扫描阵列，它们全都整合在HOME键中，HOME键中的不锈钢检测圈，需要达到高光要求，必须切削完无刀纹，以及要求高亮的要求。

目前常见的表面涂镀技术，包括物理气相沉积、化学气相沉积、热喷涂、化学键、电镀等。与其它提高材料表面性能的方法相比，气相沉积技术由于沉积温度低、无污染等独特的优点，在现代材料表面改性技术中占有重要的地位。而真空阴极电弧离子镀技术作为技术的一种，已经成为涂层生产的主流技术，电弧离子镀有一个缺点，那就是在薄膜沉积过程中，从阴极面飞溅出的液态颗粒，即液滴(直径从纳米级到微米级)，也会随着把材离子一起沉积在薄膜中，它们镶嵌在膜层中，或散布在薄膜表面，有的甚至超过了常见薄膜厚度贯穿于整个膜层，不仅大大降低了薄膜的表面光洁度，而且破坏了薄膜的连续性，严重影响薄膜的质量和性能。而且液滴也是影响高光刀质量最重要的一个因素。

发明内容

本发明旨在克服现有技术的缺陷，针对上述问题，提供了一种高光刀电弧涂层工艺。从薄膜沉积工艺参数(氮气压强、脉冲偏压)，通过改变不同的工艺参数来观察其对薄膜表面液滴数量、尺寸、分布的影响。

为了解决上述技术问题，本发明提供以下技术方案：

一种高光刀电弧涂层工艺，其特征在于，包括以下步骤，a、使用真空阴极电弧离子镀对高光刀具表面进行涂层处理，通过改变氮气的通气量，观察刀具表面的液滴数量以及尺寸；b、涂层偏压选择，在相同条件下，通过改变脉冲偏压来改变涂层偏压的情况，观察刀具表面的液滴数量以及尺寸，处理工艺完毕。

优选的，a步骤中，氮气的通气量真空度值是3.5E-2mbar。

优选的，b步骤中，脉冲偏压-150V。

与现有技术相比较，本发明具有如下的有益效果：

1、本涂层高光刀工艺涂层在氮气气压保持在3.5E-2mbar，以及保持脉冲偏压-150V的情况下，涂层的液滴最少，涂层质量最好。

2.在改变涂层偏压的情况下，既保证了涂层液滴，也可以增加涂层的结合力，刀具寿命提高一倍。

具体实施方式

以下对本发明的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明，并不用于限定本发明。

实施例一种高光刀电弧涂层工艺，包括以下步骤，a、使用真空阴极电弧离子镀对高光刀具表面进行涂层处理，通过改变氮气的通气量，观察刀具表面的液滴数量以及尺寸；a步骤中，氮气的通气量真空度值是3.5E-2mbar。在涂层过程中，产生的液滴比较少，刀具表面达到高光效果。

b、涂层偏压选择，在相同条件下，通过改变脉冲偏压来改变涂层偏压的情况，观察刀具表面的液滴数量以及尺寸，处理工艺完毕。b步骤中，脉冲偏压-150V。

经过多次测试，涂层刀具在切削过程中的磨损行为更能直观衡量涂层刀具的寿命。

以上所述仅为说明本发明的实施方式，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。