[发明专利]掩模板、显示基板及其制作方法、显示面板、显示装置

说明书

本发明提供了一种掩模板、显示基板及其制作方法、显示面板、显示装置，属于显示技术领域。其中，掩模板，用于制作显示基板，所述掩模板包括对应所述显示基板的彩色滤光单元的透光图形、对应所述显示基板的黑矩阵图形的第一部分透光图形、对应所述显示基板的第一隔垫物的不透光图形。本发明的技术方案能够提高显示基板的产能，降低显示基板的生产成本。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是指一种掩模板、显示基板及其制作方法、显示面板、显示装置。

背景技术

液晶显示器由阵列基板、显示基板和两个基板之间的液晶层组成。液晶显示器有多种显示模式，其中，TN(Twisted Nematic，扭曲向列型)模式的液晶显示器因其输出灰阶级数少，响应时间快以及生产成本低廉等优点，在目前市面上主流的中低端液晶显示器中被广泛使用。

对于TN液晶显示器的显示基板，现有制作工艺步骤依次为：黑矩阵图形→蓝色滤光单元→绿色滤光单元→红色滤光单元→公共电极→隔垫物，可见，需要通过多次构图工艺才能制作完成TN液晶显示器的显示基板，导致显示基板的生产周期长，产能受到限制，并且生产成本较高。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种掩模板、显示基板及其制作方法、显示面板、显示装置，能够提高显示基板的产能，降低显示基板的生产成本。

为解决上述技术问题，本发明的实施例提供技术方案如下：

一方面，提供一种掩模板，用于制作显示基板，所述掩模板包括对应所述显示基板的彩色滤光单元的透光图形、对应所述显示基板的黑矩阵图形的第一部分透光图形、对应所述显示基板的第一隔垫物的不透光图形。

进一步地，所述掩模板还包括对应所述显示基板的第二隔垫物的第二部分透光图形，所述第二部分透光图形的透光率小于所述第一部分透光图形的透光率。

进一步地，所述第一部分透光图形的透光率为30％-50％，所述第二部分透光图形的透光率为10％-18％。

本发明实施例还提供了一种掩模板，用于制作显示基板，所述掩模板包括对应所述显示基板的彩色滤光单元的不透光图形、对应所述显示基板的黑矩阵图形的第一部分透光图形、对应所述显示基板的第一隔垫物的透光图形。

进一步地，所述掩模板还包括对应所述显示基板的第二隔垫物的第二部分透光图形，所述第二部分透光图形的透光率大于所述第一部分透光图形的透光率。

进一步地，所述第二部分透光图形的透光率为30％-50％，所述第一部分透光图形的透光率为10％-18％。

本发明实施例还提供了一种显示基板的制作方法，利用如上所述的掩模板，通过一次构图工艺同时形成所述显示基板的黑矩阵图形和第一隔垫物。

进一步地，所述制作方法具体包括：

形成遮光的正性光阻材料层，利用如上所述的掩模板对所述正性光阻材料层进行曝光，显影后去除对应所述透光图形的正性光阻材料层，去除对应所述第一部分透光图形的部分正性光阻材料层形成所述黑矩阵图形，保留对应所述不透光图形的正性光阻材料层形成所述第一隔垫物；或

形成遮光的负性光阻材料层，利用如上所述的掩模板对所述负性光阻材料层进行曝光，显影后保留对应所述透光图形的负性光阻材料层形成所述第一隔垫物，去除对应所述第一部分透光图形的部分负性光阻材料层形成所述黑矩阵图形，去除对应所述不透光图形的负性光阻材料层。

进一步地，所述制作方法具体包括：