[发明专利]掩模板、显示基板及其制作方法、显示面板、显示装置

权利要求书

1.一种掩模板，用于制作显示基板，其特征在于，所述掩模板包括对应所述显示基板的彩色滤光单元的透光图形、对应所述显示基板的黑矩阵图形的第一部分透光图形、对应所述显示基板的第一隔垫物的不透光图形。

2.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述掩模板还包括对应所述显示基板的第二隔垫物的第二部分透光图形，所述第二部分透光图形的透光率小于所述第一部分透光图形的透光率。

3.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述第一部分透光图形的透光率为30％-50％，所述第二部分透光图形的透光率为10％-18％。

4.一种掩模板，用于制作显示基板，其特征在于，所述掩模板包括对应所述显示基板的彩色滤光单元的不透光图形、对应所述显示基板的黑矩阵图形的第一部分透光图形、对应所述显示基板的第一隔垫物的透光图形。

5.根据权利要求4所述的掩模板，其特征在于，所述掩模板还包括对应所述显示基板的第二隔垫物的第二部分透光图形，所述第二部分透光图形的透光率大于所述第一部分透光图形的透光率。

6.根据权利要求5所述的掩模板，其特征在于，所述第二部分透光图形的透光率为30％-50％，所述第一部分透光图形的透光率为10％-18％。

7.一种显示基板的制作方法，其特征在于，利用如权利要求1-3中任一项所述的掩模板或利用如权利要求4-6中任一项所述的掩模板，通过一次构图工艺同时形成所述显示基板的黑矩阵图形和第一隔垫物。

8.根据权利要求7所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法具体包括：

形成遮光的正性光阻材料层，利用如权利要求1所述的掩模板对所述正性光阻材料层进行曝光，显影后去除对应所述透光图形的正性光阻材料层，去除对应所述第一部分透光图形的部分正性光阻材料层形成所述黑矩阵图形，保留对应所述不透光图形的正性光阻材料层形成所述第一隔垫物；或

形成遮光的负性光阻材料层，利用如权利要求4所述的掩模板对所述负性光阻材料层进行曝光，显影后保留对应所述透光图形的负性光阻材料层形成所述第一隔垫物，去除对应所述第一部分透光图形的部分负性光阻材料层形成所述黑矩阵图形，去除对应所述不透光图形的负性光阻材料层。

9.根据权利要求7所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法具体包括：

形成遮光的正性光阻材料层，利用如权利要求2所述的掩模板对所述正性光阻材料层进行曝光，显影后去除对应所述透光图形的正性光阻材料层，去除对应所述第一部分透光图形的部分正性光阻材料层形成所述黑矩阵图形，去除对应所述第二部分透光图形的部分正性光阻材料层形成所述第二隔垫物，保留对应所述不透光图形的正性光阻材料层形成所述第一隔垫物，所述第二隔垫物的高度小于所述第一隔垫物的高度且大于所述黑矩阵图形的高度；或

形成遮光的负性光阻材料层，利用如权利要求5所述的掩模板对所述负性光阻材料层进行曝光，显影后保留对应所述透光图形的负性光阻材料层形成所述第一隔垫物，去除对应所述第一部分透光图形的部分负性光阻材料层形成所述黑矩阵图形，去除对应所述第二部分透光图形的部分负性光阻材料层形成所述第二隔垫物，去除对应所述不透光图形的负性光阻材料层，所述第二隔垫物的高度小于所述第一隔垫物的高度且大于所述黑矩阵图形的高度。

10.根据权利要求7所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述通过一次构图工艺同时形成所述显示基板的黑矩阵图形和第一隔垫物的步骤之后，所述制作方法还包括：

在所述黑矩阵图形限定出的像素区域内形成彩色滤光单元；

形成覆盖所述彩色滤光单元的透明导电层。