[发明专利]一种改善混响室均匀性的方法和装置

说明书

本发明公开了一种改善混响室均匀性的方法和装置，解决现有方法改善因素单一、改善效果差的问题。所述方法，包括以下步骤：通过双因素方差分析法，对影响所述混响室场均匀特性的两个因素，搅拌叶片长宽比、搅拌叶片夹角进行建模分析，确定影响大的因素为第一因素、影响小的因素为第二因素；对所述第一因素进行优化，得到第一因素优化值；在所述第一因素优化值基础上，对所述第二因素进行优化，得到第二因素优化值；确定所述第一、第二因素优化值的组合为所述混响室的最优设计值。本发明可以推广到其它尺寸的混响室设计中，为混响室搅拌器的优化设计提供依据，从而实现改善混响室场均匀性的目的。

技术领域

本发明涉及电磁兼容领域，尤其涉及一种改善混响室均匀性的方法和装置。

背景技术

场均匀性是混响室最主要的性能参数之一，混响室场均匀性的好坏，会影响到测试结果的一致性，IEC 61000-4-21标准中对混响室的场均匀性参数做了明确的要求。混响室场均匀性的影响因素较多，包括混响室腔体大小、搅拌器结构、混响室腔体内布局、混响室腔体内工作区域的选择、使用天线、混响室制作材料特性等。在这些因素当中，当确定了混响室腔体大小和材料后，搅拌器叶片形状、大小及叶片间夹角的选择及研制成为设计阶段改善混响室场均匀性最重要的关键因素。现有混响室场均匀性改善方案采用只考虑单一因素，忽略影响场均匀性的多重因素及他们之间的相互关系，改善效果较差。

发明内容

本发明提供一种改善混响室均匀性的方法和装置，解决现有方法改善因素单一、改善效果差的问题。

一种改善混响室均匀性的方法，包括以下步骤：通过双因素方差分析法，对影响所述混响室场均匀特性的两个因素，搅拌叶片长宽比、搅拌叶片夹角进行建模分析，确定影响大的因素为第一因素、影响小的因素为第二因素；对所述第一因素进行优化，得到第一因素优化值；在所述第一因素优化值基础上，对所述第二因素进行优化，得到第二因素优化值；确定所述第一、第二因素优化值的组合为所述混响室的最优设计值。

进一步地，所述方法还包括：根据所述混响室的均匀性监测频段设置多个监测频点；分别对每个所述监测频点计算所述最优设计值；对每个所述监测频点的最优设计值进行统计平均，得到监测频段的所述混响室的最优设计值。

优选地，所述通过双因素方差分析法，对影响所述混响室场均匀特性的两个因素，搅拌叶片长宽比、搅拌叶片夹角进行建模分析，确定影响大的因素为第一因素、影响小的因素为第二因素的步骤，进一步包含：分别对所述搅拌叶片长宽比、搅拌叶片夹角两个因素进行位级分解，并将所述搅拌叶片长宽比的位级与所述搅拌叶片夹角的位级进行组合，建立试验正交表；对所述试验正交表的每个组合的场均匀性观测值进行记录，得到试验数据；根据所述试验数据，计算得到所述搅拌叶片长宽比和所述搅拌叶片夹角的均方和；根据所述均方和数据，确定第一因素、第二因素为：当所述搅拌叶片长宽比均方和大于等于所述搅拌叶片夹角的均方和时，确定所述搅拌叶片长宽比为第一因素，所述搅拌叶片夹角为第二因素，当所述搅拌叶片长宽比均方和小于所述搅拌叶片夹角的均方和时，确定所述搅拌叶片夹角为第一因素，所述搅拌叶片长宽比为第二因素。

优选地，所述根据试验数据，计算得到所述搅拌叶片长宽比和所述搅拌叶片夹角的均方和的步骤，进一步包含：根据所述试验数据建立模型为：

X_ij＝μ+α_i+β_j+ε_ij,i＝1,...,k；j＝1,...,m

α₁+...+α_k＝0

β₁+...+β_m＝0