[发明专利]曝光装置、基板处理装置、曝光方法及基板处理方法

说明书

本发明提供一种曝光装置、基板处理装置、基板的曝光方法及基板处理方法。光源部向作为处理对象的基板的被处理面照射真空紫外线。在光源部向基板照射真空紫外线的照射期间，由照度计接收一部分真空紫外线，并测量接收到的真空紫外线的照度。照度计的受光面位于以在真空紫外线的照射期间的基板的被处理面为基准的恒定高度。基于由照度计测量的照度，计算基板的曝光量。基于计算出的基板的曝光量，使光源部停止向基板照射真空紫外线。

技术领域

本发明涉及对基板进行曝光处理的曝光装置、基板处理装置、基板的曝光方法及基板处理方法。

背景技术

近年来，为了将在基板上形成的图案进行细微化，利用嵌段共聚物的定向自组装(DSA：Directed Self Assembly)的光刻技术的开发正在进行中。在这样的光刻技术中，在对涂布有嵌段共聚物的基板进行加热处理后，对基板的一面进行曝光来使嵌段共聚物改性。该处理中，期望可以准确地调节基板的曝光量。

日本特开2016-183990号公报中记载了一种曝光装置，该曝光装置对基板上的包含定向自组装材料的膜(DSA膜)进行曝光处理。曝光装置具有能够射出截面带状的真空紫外线的光射出部，基板以横切来自光射出部的真空紫外线的路径的方式能够从光射出部的前方位置移动到后方位置。在曝光处理前，利用照度传感器预先检测真空紫外线的照度，基于检测的照度计算基板的移动速度，以使照射期望的曝光量的真空紫外线。在曝光处理时，基板按照计算出的移动速度移动，由此对基板上的DSA膜照射期望的曝光量的真空紫外线。

发明内容

在日本特开2016-183990号公报所记载的曝光装置的控制方式中，当光射出部照射到基板的真空紫外线的照度发生变化时，在曝光处理前检测的真空紫外线的照度与在曝光处理时照射到基板的真空紫外线的照度产生偏差。此时，难以准确地调节基板的曝光量。

本发明的目的在于，提供能够准确地调节基板的曝光量的曝光装置、基板处理装置、曝光方法及基板处理方法。

(1)本发明的一个方式的曝光装置具有：光源部，能够向作为处理对象的基板的被处理面照射真空紫外线；照度计，在光源部向基板照射真空紫外线的照射期间，接收一部分真空紫外线，并测量接收的真空紫外线的照度；曝光量计算部，基于由照度计测量的照度，计算基板的曝光量；光源控制部，以向基板照射真空紫外线的方式控制所述光源部，并且，基于由曝光量计算部计算出的基板的曝光量，以停止向基板照射真空紫外线的方式控制所述光源部。照度计具有接收真空紫外线的受光面，且受光面位于以在照射真空紫外线的照射期间的基板的被处理面为基准的恒定高度。

在该曝光装置中，由光源部对作为处理对象的基板的被处理面照射真空紫外线。在光源部向基板照射真空紫外线的照射期间，由照度计接收一部分真空紫外线，并测量接收到的真空紫外线的照度。基于由照度计测量的照度，计算基板的曝光量。基于计算出的基板的曝光量，使光源部停止向基板照射真空紫外线。

根据该结构，在光源部向基板照射真空紫外线的同时，由照度计接收一部分真空紫外线。因此，当照射到基板的真空紫外线的照度发生变化时，由照度计测量的真空紫外线的照度也发生同样的变化。

此外，照度计的受光面位于以在真空紫外线的照射期间内的基板的被处理面为基准的恒定高度。由此，真空紫外线从光源部到达基板的被处理面的衰减率与真空紫外线从光源部到达照度计的受光面的衰减率相关。因此，能够基于由照度计测量的照度，准确地获取向基板的被处理面照射的真空紫外线的照度。由此，能够基于由照度计测量的照度，准确地计算基板的曝光量。结果，能够准确地调节基板的曝光量。

(2)照度计的受光面可位于与在向基板照射真空紫外线的照射期间的基板的被处理面相同的高度。此时，真空紫外线从光源部到达基板的被处理面的衰减率与真空紫外线从光源部到达照度计的受光面的衰减率相等。由此，照射到基板的被处理面的真空紫外线的照度与由照度计测量的照度相等。结果，能够基于由照度计测量的照度，更容易地计算基板的曝光量。