[发明专利]一种树脂增透膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810124666.6 申请日: 2018-02-07
公开(公告)号: CN108318944A 公开(公告)日: 2018-07-24
发明(设计)人: 王军 申请(专利权)人: 无锡奥芬光电科技有限公司
主分类号: G02B1/115 分类号: G02B1/115;C23C14/08;C23C14/18;C23C14/20;C23C14/32
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 殷红梅;任月娜
地址: 214028 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 增透膜 制备 复合层 树脂 交替层叠 基板 膜层 镀膜原料 附着力强 树脂基板 镀膜机 离子源 真空室 镀膜 匹配 蒸发
【权利要求书】:

1.一种树脂增透膜,其特征在于:包括若干层相互交替层叠的Ti3O5层与SiAl层。

2.如权利要求1所述的树脂增透膜,其特征在于:所述Ti3O5层与SiAl层总共设置有5~7层。

3.如权利要求 1所述的树脂增透膜,其特征在于:所述Ti3O5层的厚度为10~400 nm。

4.如权利要求 1所述的树脂增透膜,其特征在于:所述SiAl层的厚度为10~400 nm。

5.如权利要求1所述的树脂增透膜,其特征在于:所述SiAl层中的SiO2 :Al2O3的质量百分比为1.8:1~2.3:1。

6.如权利要求1所述的树脂增透膜,其特征在于:增透膜的底部设置有厚度为0.01~0.2mm的基板,所述基板为PET层、COP层、COC层、PMMA层或PC层。

7.权利要求1所述的树脂增透膜的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:

将基板置于含离子源的镀膜机的真空室中依次进行Ti3O5层与SiAl层的镀膜并对各层材料进行蒸发得到树脂增透膜。

8.如权利要求7所述的树脂增透膜的制备方法,其特征在于:镀膜前首先对基板进行离子源轰击,轰击时间为2~5min。

9.如权利要求7所述的树脂增透膜的制备方法,其特征在于:所述镀膜机的起始真空度为8.0×10-4pa~1.0×10-3Pa,镀膜机的温度为60~90℃;离子源的Beam电压为600~1300V,ACC电压为800~900V,Beam电流为600~1000mA。

10.如权利要求7所述的树脂增透膜的制备方法,其特征在于:所述Ti3O5层的蒸发速率为0.2~0.35nm/s,SiAl层的蒸发速率为0.4~0.6nm/s。

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